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世界可见光及电子光学的企业——德国蔡司公司始创于1846年。其 电子光学前身为LEO（里奥），更早叫Cambridge（剑桥）和Zeiss。积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验，电子光学成像技术在世界上创造了数个里程碑：
-与AEG公司合作实现了透射电子显微镜的商业化（1949）-陆续推出的EM9型电子显微镜是世界上*具有自动曝光控制的电磁式
-透射电子显微镜TEM（1956）
-推出EM902型配用Castaing-Henry过滤器商用电子显微镜，用户利用
-该种新产品能够得到高分辨率元素分布图片（1984）
-配用静电电磁物镜（Gemini技术）的场发射扫描电子显微镜DSM982
-Gemini投放市场（1993）
-推出具有Koehler照明的200KV场发射透射电镜（2003）
-推出具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜（2003）
CARL ZEISS其前瞻性和完善的设计，融合欧洲*的制造工艺， 造就了该品牌在光电子领域的地位。自成立至今，一直延续不 断创新的传统，公司拥有广泛的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的 分析技术的加入，可为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜（FIB and SEM）、透射电子显微镜等全系列解决方案。其产品的高性能、 高质量、高可靠性和稳定性已得到世界范围内广大用户的信赖与认可。
作为一家电子光学产品提供商，我们将为您提供完善的纳米技术解决方案，并且以专业化的手段让您的投资物有所值。无论您是企业还是科研机构，卡尔 蔡司在高质量电子光学系统方面优良的传统都会为您的业绩做出积极的贡献。
【总体描述】
蔡司钨灯丝扫描电镜EVO MA 15的问世，将钨灯丝扫描电镜的发展带入了全新的时代，超大样品室为各类繁杂的样品以及繁重的工作提供了轻松的解决方案，自动化的5轴样品台和大的X、Y、Z轴跟踪扫描以及可变压力的检测模式使得EVO MA 15能够广泛适用于各类样品的检测工作，EVO MA 15作为一款研究级扫描电镜能够为您提供完美的视觉图像和泛的应用领域。
【技术参数】
分辨率：3.0nm@ 30KV(SE and W) 4.0nm@ 30KV(VP with BSD)
加速电压：0.2—30KV
放大倍数：5—1000000x
探针电流：0.5PA-5μA
X-射线分析工作距离：8.5mm 35度接收角
压力范围：10—400Pa (LS15:环扫模式10-3000Pa)
工作室：365mm(φ)×275mm(h)
5轴优中心自动样品台：X=125mm Y=125mm Z=50mm T=-10°- 90°R=360°
较大试样高度：145mm，大试样直径：250mm
系统控制：基于Windows 7 的SmartSEM操作系统
存储分辨率为32,000 x 24,000 pixels
【主要特点】
能在可变压力下操作
*X射线和EBSD分析
可移动大平台
快抽真空
未来的保证，可升级在高压和水蒸气下成像和分析
高亮度LaB6资源选择
光线套选择
【产品应用】
扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。
