维修美国MicroLine高精密光学影像测量仪

MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统。

主要技术参数：

◆    测量范围(XYZ)：标准：200×200×25mm；可选：300x300x25
◆    视场内测量精度：10nm(100X 镜头)；Z轴聚焦范围：25 mm
◆    视场内测量范围：0.5um~400um；
◆    视场内测量重复性(100x 物镜)：  晶圆上<0.010um(1δ)；
                                                    掩模板上0.005um(1δ)；   

◆    承重：2kg

◆    标配镜头10x，可选镜头：5X, 20X, 50X, 100X 

维修美国MicroLine高精密光学影像测量仪

MicroLine 300 is a table type semi-automatic CD measurement system .

The main technical parameters :

◆ X,Y,Z Measuring Range (mm):   standard :200x200x25                      optional :  300X300x25 

◆ The field measurement accuracy ：10nm （100X lens ）          Z Foucsing Range (mm)     :   25

◆ The field measurement range ：0.5um~400um；

◆ The field measurement repeatability （100X lens）：on wafer < 0 0.010m(1δ)；

                                                                             on mask plate 0.005um(1δ)；   

◆  Max Recommanded Load      :   2kg

◆  Lens ： standard ：10X

                 optional ：5X，20X，50X，100X。 

维修美国MicroLine高精密光学影像测量仪

MicroLine 系列 主要用于测量半导体、MEMS 晶圆、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多层套刻、圆、对接误差等)量测。
MicroLine 临界尺寸测量系统设计应用于半导体和MEMS晶圆以及光掩模CD量测。Microline 系列可自动测量线宽，迭置重合，和其他关键尺寸。

MicroLine 装备有高性能光学显微镜，高精度运动平台，可测量0.5 微米到400 微米大小的产品，测量精度和重复性在10nm （1  σ ，100倍物镜）。

维修美国MicroLine高精密光学影像测量仪

MicroLine 系列 主要用于测量半导体、MEMS 晶圆、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多层套刻、圆、对接误差等)量测。
MicroLine 临界尺寸测量系统设计应用于半导体和MEMS晶圆以及光掩模CD量测。Microline 系列可自动测量线宽，迭置重合，和其他关键尺寸。

MicroLine 装备有高性能光学显微镜，高精度运动平台，可测量0.5 微米到400 微米大小的产品，测量精度和重复性在10nm （1  σ ，100倍物镜）。