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HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )

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公司名称上海隽思实验仪器有限公司
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型号
所在地上海市
厂商性质生产厂家
更新时间2022/8/3 11:15:10
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公司介绍主营产品

　　上海隽思实验仪器有限公司集研发、设计、制造、销售于一体，专业制造气候环境试验设备、各类烘干设备及实验室仪器，电线电缆燃烧分析检测设备，拉力试验机，光学分析仪器等产品.燃烧试验机，电缆燃烧试验机高低温试验箱，温湿度试验箱，真空干燥箱电缆切片机，削片机，交联电缆切片机拉力机，拉力试验机，*试验机电缆投影仪，电缆截面投影仪，电缆测量投影老化试验机，老化房定做过渡电阻测试仪，绝缘电阻测试仪，电桥气候环境试验设备、各类烘干设备及实验室仪电线电缆燃烧分析检测设备，拉力试验机.

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产品简介在线询价

HMDS预处理系统(JS-HMDS90)用途：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要

HMDS预处理系统(JS-HMDS90 ) 产品信息

HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )用途：

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )技术性能：

1.尺寸（深*宽*高）

内腔尺寸：450×450×450（mm）（可定制）

外形尺寸：750×1120×1650（mm）

2. 材质

外箱采用优质冷轧板喷塑，内箱采用 316L 科研级不锈钢

3.温度范围

RT+50-200℃

4.温度分辨率

0.1℃

5.温度波动度

≤±0.5