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桌面式小型溅射仪

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  • 公司名称郑州科探仪器设备有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地郑州市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2024/5/3 11:41:28
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郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料创新型企业,如今公司的产品已经遍布国内大多数实验室 及*校,科探仪器已经成为老师 同学欢迎和信任的品牌之一公司以科技创新为主,服务社会为宗旨,积极设计开发新型材料制备设备,奉献于教育和科学,经过长期的研发和不断地技术积累,拥有热工,制造,控制相关技术10余项,为化学,物理,材料,电子,高分子工程,新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师 同学强强联合,形成了有效的信息,技术交流平台,为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持!。目前公司已研发生产产品十多个系列几十款产品,产品囊括实验电炉、CVD供气系统、等离子清洗机、小型离子溅射仪、小型蒸镀仪等,主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等领域物理特性及化学特性的研究,广销于各大院校,及材料研究所。公司与国内高校,科研院所有多层次的合作关系,建有开放实验室,相关领域的教授、高级工程师、博士参与公司产品的研究和开发。我们秉承公司的发展理念,依靠严谨的技术研发能力,科学合理的生产工艺,精益求精的制造要求,全心全意做好产品质量和服务工作,科探仪器时刻怀着一颗真诚的心期待与您的合作。
温度控制仪
桌面式小型溅射仪KT-Z1650PVD磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。
桌面式小型溅射仪 产品信息

桌面式小型溅射仪KTZ1650PVD

传统的溅射技术的工作原理是:在高真空的条件下,入射离子(Ar+)在电场的作用下轰击靶材,使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面,沉积在基片表面形成薄膜。但是,电子会受到电场和磁场的作用,产生漂移,因而导致传溅射效率低,电子轰击路径短也会导致基片温度升高,为了提高溅射效率,在靶下方安装强磁铁,和周圈分别为NS极。电子由于洛伦兹力的作用被束缚在靶材周围,并不断做圆周运动,产生更多的Ar+轰击靶材,大幅提高溅射效率,如图所示,采用强磁铁控制的溅射称为磁控溅射。

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桌面式小型溅射仪KTZ1650PVD厂家供应技术参数;

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口



关键词:人机界面
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