● 应用领域:高剂量离子注入光刻胶的去除,湿法或干法刻蚀前后残胶去除,MEMS 中牺牲层的去除,去除化学残余物,去浮渣工艺,SU-8 光刻胶去除等
● 优势:去胶速度快,对产品损伤小,设计紧凑,操作简单
● 工艺腔室:铝材质,尺寸 350(W)×350(D)×170(H)mm
● 样品尺寸:12 寸,向下兼容
● 腔门:抽屉式带加热台盘 60 - 200℃(选配 250℃ 加热台盘),带观察窗
● 微波源:2.45GHz, 1200W
● 气路:标配两路工艺气体,带质量流量计(可升级至 4 路)
● 真空规:Pirani,PCR280 Standard
● 真空泵:干泵或油泵可选
● 控制系统:10.4 寸触摸屏,Windows系统,图形化操作界面
● 电力需求:3 / N / PE AC 50Hz 400 / 240V 16A
● 整机尺寸:560(W)×770(D)×770(H)mm