VF-3000 自动立式炉管

概述

该立式炉管可用于 4 英寸到 8 英寸的各种晶圆大小，并可选择小批量处理 50 至 75 片一体式。该立式炉管通过精心选择硬件和控制系统组件来实现低价，可用于从研发到批量生产线等众多功能。从 LGO 加热器、二硅化钼 (MoSi₂) 加热器和碳加热器中选择使用一款合适的加热器，不仅可用于低温退火、氮化物 (Si₃N₄)、多晶硅和其他材料 LPCVD、氧化和扩散处理，还可用于 SiC 功率器件栅硅氧氮化、活化退火和其他超高温处理工艺。

特性

● 面向后端用户的低成本设备

● 小批量、50 至 75 片一体式处理可用于研发及批量生产线

● 提供 4 至 8 英寸晶圆尺寸

● 最多 4 个晶盒储料器

● 使用 LGO 加热器，从低温到中高温都能实现出色的温度控制

● 使用单片式机械手臂实现晶圆高速传送

● 配备功能有限的简单控制系统

规格

外部尺寸：W1200 × D1450 × H2610 mm

加热器：LGO加热器

均热区长度：至 360 mm

晶圆大小：4 至 8 英寸

可放置晶圆的数量： 75 片一体式（8 英寸为 50 片一体式）

I/O端口：4

晶盒储料器数量：4

手指：单片式

选配：

强制冷却系统
N₂ 置换室
可转换晶圆大小