VF-1000 手动研发立式炉管

概述

这款用于实验、研发和小规模生产的立式炉管可用于从 2 英寸到 8 英寸以及 300 毫米的各种晶圆尺寸，小批量炉管的尺寸也可从多达 25 片一体式中进行选择。由于加热器可以从 LGO 加热器和各种其他加热器中进行选择，因此工艺开发具有与量产炉管相同的炉口结构和加热器性能。该立式炉管可用于硅晶片处理（LPCVD、氧化和扩散）、针对功率器件（Si 和 SiC）开发的硅栅氧氮化和活化退火，以及其他工艺。

特性

● 用于研发的高性能处理

● 小批量，最多 25 片一体式进行批量加工

● 提供 2 至 8 英寸和 300 毫米晶圆尺寸

● 配备 LGO 加热器，实现与量产设备相同的高温性能

● 配备功能有限的简单控制系统

规格

外部尺寸：W1500 × D1000 × H2130 mm

加热器：LGO加热器

均热区长度：至 250 mm

晶圆大小：至 8 英寸

可放置晶圆数量： ≥ 25 片/批次（不含陪片）

选配：

强制冷却系统
N₂ 置换室
50 至 150 片一体式的加工
300mm 晶圆处理