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SENTECH-等离子体增强化学气相沉积 - (SI 500 PPD)

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  • 公司名称上海德竹芯源科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号SI500PPD
  • 所  在  地上海
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2024/5/15 9:23:48
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上海德竹芯源科技有限公司是一家专注于功率器件、光电器件、射频器件、量子器件、MEMS传感器领域的设备销售、系统集成、设备国产化的公司。主要为高校、研究所、中试量产线及晶圆FAB厂提供半导体工艺设备、检测设备、封装设备、测试设备。目前公司已成为国内少数几家专业提供半导体工艺、检测、封装、测试整体解决方案的企业。公司主要成员为复旦大学、上海微系统所等半导体相关专业博士,拥有一支经验丰富、技术过硬的团队。能够出色地完成售前售中、售后的服务。目前公司已与众多国际半导体设备企业建立了良好的合作关系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等),致力于根据用户的科研方向和量产的器件类别提供相应的全套设备选型和工艺整体解决方案。
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SI 500 PPD 等离子体增强化学气相沉积系统采用经典平行板电极设计,兼容低温沉积工艺。
SENTECH-等离子体增强化学气相沉积 - (SI 500 PPD) 产品信息

等离子体增强化学气相沉积

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD


SI 500 PPD PECVD 采用经典平行板电极设计,兼容低温沉积工艺。


主要配置特点

工艺灵活性:SI 500 PPD PECVD 可在从室温到 350℃ 的温度范围内进行 SiO2、SiNx、SiOxNy 和 α-Si 的标准的等离子体化学气相沉积工艺。

预真空室:SI 500 PPD PECVD 的特色是配备预真空室和干泵,用于无油、高效率化学气相沉积过程。

控制软件:SENTECH强大的用户界面友好软件,包括模拟图形用户界面、参数窗口、工艺菜单编辑窗口、数据记录和用户管理。


应用展示

低温沉积Si、SiO2薄膜

用户友好控制软件

SI 500 PPD配置选项

等离子体增强化学气相沉积主机

预真空室

适用于大到 200mm 的晶片

衬底温度:从室温到 350 °C

可选低频射频进一步降低应力

用于沉积 TEOS 的液态前驱体解决方案

干泵组

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