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电子行业用超纯水设备
[摘要]：电子行业中像电解电容、电子管、玻璃壳、硅晶片的生产中用到16-18MΩ.CM超纯水,除了对水的纯度要求高以外对电颗粒杂质以及TOC有更高要求，提供三种工艺 流程，并以3T/H设备描述了反渗透（RO）+EDI（电去离子）方法制取超纯水的设备。
［关键词］：电子行业 电解电容 硅片清洗 阴极显像管 超纯水 反渗透 edi 混床 典型工艺流程 工程实例
一、电子行业高纯水除盐装置应用范围概述：
1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产
2、电子管阴极涂敷碳酸盐配液显像管和阴极射线管生产
3、配料用纯水黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水液晶显示器的生产屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片等。
二、电子行业超纯水工艺流程
◆典型工艺流程
预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥18MΩ.CM）
◆传统工艺流程
预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.22或0.5um精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）
◆其它工艺流程
1、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水终端（≥15MΩ.CM）
EDI+抛光混床后处理系统
三、处理后水质标准
经过高纯水除盐设备后，出水水质可以满足显像管、液晶显示器、 集成电路用水标准。 国家电子级纯水标准、 美国SEMI标准。
工程实例
3t/h电子行业用高纯水系统工艺流程如下：
原水管道－原水加压泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－精密过滤器－反渗透机－中间水箱-EDI装置－中间水箱-抛光树脂-紫外线杀菌器-终端精密过滤器－用水点-回中间水箱 .........
3t/h电子行业用高纯水系统配置清单如下：
| 序号 | 名称 | 规格、型号 | 单位 | 数量 |
| 1 | 自来水加压泵 | CH4－40 4t/h 流量4m3/h 40m扬程带自控 | 台 | 1 |
| 2 | 多介质过滤器 | JCW 180/440 2472 阿图祖阀 FRP罐体 | 套 | 1 |
| 3 | 全自动炭过滤器 | JCF 180/440 2472 阿图祖阀 FRP罐体 | 套 | 1 |
| 4 | 全自动软水器 | JWS 180/440 2472 阿图祖阀 FRP罐体 | 套 | 1 |
| 5 | 保安过滤器 | Ф220*1000 5μm SUS304 | 台 | 1 |
| 6 | 反渗透设备 | RO3000 3t/h 美国陶氏反渗透膜 | 套 | 1 |
| 7 | 中间水箱 | 2000L SUS304 带水位控制器 | 套 | 1 |
| 8 | EDI装置 | EDI3000 3t/h 根据用户要求选用EDI品牌 | 套 | 1 |
| 9 | 中间水罐 | 1000L SUS304 | 套 | 1 |
| 10 | 纯水水泵 | CDL4-30 | 台 | 1 |
| 11 | 抛光混床 | 1447 混床专用玻璃钢罐体 抛光树脂 | 套 | 1 |
| 12 | 紫外线杀菌器 | 3t/h SUS304 | 套 | 1 |
| 13 | 终端精密过滤器 | 0.5μm SUS304 | 台 | 1 |
四、电子行业高纯水设备特点
为满足用户生产工艺用水需求，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺设计上，源水（市政自来水），经多介质过滤器，活性碳过滤器，钠型阳离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）装置等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，由PLC控制系统完成包括阻垢剂计量泵、高压泵、电动慢开门的顺序启动和停止；停运时反渗透装置的自动低压冲洗；运行过程中低压压力开关与系统的连锁运行；各转动设备的运行监测和报警等。
佳迪水处理公司生产的电子行业高纯水除盐装置、超纯水处理设备、反渗透脱盐机组可满足电子行业不同客户对生产工艺用水的需求
本页关键词：电子行业电解电容器、晶体管、显示屏、电子元器件超纯水系统。
