磁控溅射仪

磁控溅射仪

磁控溅射仪

主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）

靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H）

靶材：Au（标配）

样品室：玻璃腔体160mm×120mm（D×H）

靶材尺寸：Ф50mm

高真空度：≤ 4X10-2 mbar

大电流：100mA

定时器：数码计时 0-999S

镀膜面积：50mm

微型真空气阀：可连接φ3mm软管

可通入气体：多种

高电压：-1600 DCV

机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8）

冷却方式：冷水机（可根据实验具体要求自备）

速率：0--60nm/min

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