ICP等离子发射光谱仪SPECTRO GENESIS

ICP等离子发射光谱仪SPECTRO GENESIS

应用SPECTRO侧向等离子体接口（SPI）的侧向观测等离子体用于高浓度和主成分检测、高固含量和有机物分析，可以提高线性范围、准确度和精度。

  利用优化的层流、低流速吹扫机理的SPI保证光路中无氧气、减少对紫外区波长的吸收。这个技术可保证易维护的入射光学组件不受污染，使得175-190nm光谱范围的谱线的稳定和超常的灵敏度。

  用于工业分析的工厂预校准分析方法包。下面是可供选择的方法包：
工业废水（只有基本的方法）、污泥、土壤、油品中磨损金属/添加剂、矿石、金属材料

ICP等离子发射光谱仪SPECTRO GENESIS分光系统：
  恒温在+30C  0.1C；中空防热彭胀双帕邢－龙格罗兰圆设计；焦距400mm；全息凹面原光栅，刻线密度2400刻线/mm；石英光学部件；全部是1级波长覆盖；波长范围：175 - 777 nm；入射狭缝：15 μm

检测器：
  根据所在波长精心选择并进行优化设计的15个线性CCD连续排列在罗兰圆上；分辨率14pm；与光学系统一样恒温在；动态范围为108，全波长覆盖，ICAL自动标准化

紫外系统：
  氩气吹扫系统, 佳化低流量吹扫(只在分析190nm以下元素时使用)

高频发生器：免维护型，频率为27.12MHz，发生器功率：0.7 to 1.7 kW

进样系统及炬管单元
• Lock-in-Place快速换装设计
• Gas flows under full computer control气体流量全部由计算机控制
o Plasma gas等离子气  : 0 – 20 l/min in 0.1 l/min increments
o Auxiliary gas辅助气  : 0 – 3 l/min in 0.01 l/min increments
o Nebulizer gas雾化气  : 0 – 1.5 l/min in 0.01 l/min increments 
• 计算机控制4速、3通道、12滚轴进样蠕动泵