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改进型胶体磨、实验室研磨机

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  • 公司名称上海依肯机械设备有限公司
  • 品       牌
  • 型       号CMSD
  • 所  在  地上海市
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间2019/6/18 18:45:42
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上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系,并秉承发扬了德国的营销理念,不断开拓进取,以其专业制造的、经营思想的纯洁性、工作作风的严谨性,发展成为中国流体高剪切混合设备行业的XX者。

 

  公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一 高剪切分散乳化机,二 均质设备,三 粉液混合设备,四 胶体磨,五 搅拌机,六干燥机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为重点工程配套,部分产品返销国外,取得了显zhu的经济效益和社会效益。
 

 追求高品质IKN的宗旨。成功源自创新亦是公司全体员工一直努力追随的目标。高品质与创新是IKN立于的保证。

乳化机,胶体磨,均质机,混合机
IKN研磨分散机,改进型胶体磨、实验室研磨机是由胶体磨和分散机组合而成。兼具研磨和分散功能,但并不是将两种功能简单的叠加,不仅仅是1+1=2这样简单;研磨分散机必须经过合理和精密设计,特别是其中间隙、流量、尺寸和密封的处理,都经过严格的计算和精心组合;实际的效果变成了1+1>2,研磨细度超过单一的胶体磨,分散效果又强于单一的分散机。
改进型胶体磨、实验室研磨机 产品信息

研磨分散机的应用非常广泛,除了分散机(乳化机)适用的医药、食品、日化、染料、涂料等行业;也适用于胶体磨常用的胶体溶液、色素混合、蛋黄酱、金属氧化物、沥青、硅乳胶等行业。因为研磨分散机的*设计和超常性能,某些产品应用和工艺中更加优势明显,特别是在处理超细颗粒粉体分散于树脂、溶液、油相等液相。超细粉末可以是金属氧化物如白炭黑、钛bai粉、铁红铁黑、氧化锆等,也可以是金属盐或者高分子聚合物等。超细粉末在进行分散时会遇到的问题,分散不均匀,容易抱团(特别是含有添加剂的情况下更加明显),传统的方式是采用砂磨机或者球磨机进行长时间的反复研磨,这样虽然也可以达到效果,但砂磨机价格昂贵(50L的进口砂磨机价格在数十万以上),研磨时间过长,耗时耗能,占用空间大,维修成本较高。研磨分散机的应用很好的解决了上述问题,研磨时间短,节能减耗,没有易损件,维修成本ji低,同时还兼具分散功能;是解决超细粉体分散抱团、不均匀的*选择。

在涂料的生产中,湿法研磨是关键的工艺步骤。对于油墨生产商,悬浮液的颜色特性非常关键。色强度、光泽和透明度很大程度上与湿法研磨工艺决定并与粒径分布相关。颜料被研磨得越细,他们的总表面积就越大,继而增加了色强度。这也意味着实现规定的色强度需要的颜料越少,收益增加。IKN研磨分散机、高速研磨分散设备、改进型胶体磨、实验室研磨机、微型管线式分散设备、超微粉碎设备。

为了实现更高的光泽,悬浮体的粒径分布需要变得更窄,粒径不能差别过大。过大或过小的颗粒都会对光泽产生不利的影响。而且过小的颗粒更容易重新团聚,进而降低物料的流动性。

IKN研磨分散机是由胶体磨和分散机组合而成。兼具研磨和分散功能,但并不是将两种功能简单的叠加,不仅仅是1+1=2这样简单;研磨分散机bi须经过合理和精密设计,特别是其中间隙、流量、尺寸和密封的处理,都经过严格的计算和精心组合;实际的效果变成了1+1>2,研磨细度超过单一的胶体磨,分散效果又强于单一的分散机。这样的设计既具有胶体磨的研磨功能,可以将物料由粗磨细;研磨后的物料经过下端的分散头,又可以shun间均匀分散,形成均一体系。

上海依肯IKN高剪切研磨分散机,采用德国xian进的技术,设备转速可高达14000rpm,是guo产设备的4-5倍;磨头结构为三级错齿,沟槽深度从上到下为由深到浅,沟槽的宽度也是从上到下为由大到小,这样每级都会对物料更进一步的研磨粉碎。而guo产分散机从上到下的宽度都是*的,所以研磨粉碎的效果很有限。IKN分散机采用德国博格曼双端面机械密封,并配有机密冷却系统,在确保冷却水的情况下,可24小时连续生产。IKN研磨分散机、高速研磨分散设备、改进型胶体磨、实验室研磨机、微型管线式分散设备、超微粉碎设备。


IKN研磨分散机采用了二级处理结构,*级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块,第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定转子精密度都达到了guo际水平。

 

采用直立式设计,使物料可以全部进入分散腔,符合工艺要求和流体力学要求,增加其工作效率,zui低处出口的出料设计符合生产要求,垂直的压力使得该机器工作更加稳定,同时便于清洁。充分考虑FDA和EHEDG的标准,CMSD2000与物料接触的材料根据生产要求使用SS316钢或更加耐酸碱的哈氏合金,ji大增强其耐磨损和耐腐蚀的特性,杜绝设备与物料产生物理和化学变化而形成污染。采用了三层结构卡匣式的机械密封设计,可以快速安装,可靠性能高,适合制药工业。根据制药规范要求,对分散腔和出料口进行表面处理,ji高的表面处理质量和*设计便于清洗,符合CIP及SIP的清洁标准。

影响研磨效果的因素:

1 磨头的形式(卧式和立式)

2 磨头头的剪切速率

3 磨头的齿形结构(见磨头结构)

4 物料在磨头墙体的停留时间,乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-转子 间距 (m)

由上可知,研磨速率取决于以下因素:

  • 磨头的线速率
  • 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 (相对而言)

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 

IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

 

而对CMSD模块头,磨头的间歇G理论可以无限小,但是由于高速的运转,造成轴的振动,需要一定的间歇,作用力可以无限大,但实际上比胶体磨要好。

1. 具有强大的混合均质、分散乳化能力和越强的粉碎研磨、破碎输送功能

 2. 所以零件都采用锻造精加工而成,*铸件 

3. 电机采用普通型、防爆型等优质电机、确保*使用无质量问题

4. 本设备*设计,无振动,无噪音,动平衡效果好,安装方便

5. 转定子可进行渗氮处理或渗碳化钨处理,增强表面的硬 度,达到耐腐耐磨 

6. 有强大的输送能力,扬程可达20米,连续作业和间隙作 业不影响设备寿命 

7. 间隙可以调节,调节距离为0.01~2mmzui小细化度可达 0.5µm 

8. 采用机械水冷耐高温双面合金密封,只要有密封冷却液溢出空转没问题

IKN研磨分散机、高速研磨分散设备、、微型管线式分散设备、超微粉碎设备。

更多详细内容上海依肯销售林万翠  1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3  :2-9-7-1-0-3-6-5-1-9  您的认可是对我们zui大的肯定。

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