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亨仪;H Y
近日，上海芯上微装科技股份有限公司自主研发的350nm步进投影光刻机(AST6200)凭借卓越性能与稳定表现，快速顺利通过国内化合物半导体领域头部客户的工艺验证，并斩获批量重复订单。
AST6200光刻机可广泛应用于功率器件、射频前端、光电子芯片及Micro LED新型显示等制程场景。设备在关键工艺效果、工艺适应性与软件自主化方面均展现出核心优势：
关键工艺效果
AST6200光刻机搭载高性能投影物镜与先进照明模式，稳定实现350nm高分辨率精细图案化能力，全面满足Si、SiC、GaN、GaAs、InP、蓝宝石等多种衬底材料的光刻需求。其高精度对准系统确保多层图形之间精准套刻，显著提升器件良率。同时，通过采用高照度光源、高速基底传输系统及高动态运动台，显著提升单位时间产出，有效帮助客户降低单颗芯片的综合拥有成本(COO)。
强大工艺适应性
AST6200光刻机创新调焦调平系统能够稳定测量透明、半透明、不透明及大台阶等多种基底，确保复杂衬底条件下的曝光质量。平边对准和背面对准模块的加入，可满足特殊基底晶向解理和键合片对位等复杂制程需求。设备支持从2英寸到8英寸多种规格基片，兼容平边、双平边、Notch等主流基底类型，真正实现“一机多用”，为客户产线切换带来极大灵活性。
全栈自主的软件控制系统
AST6200光刻机搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理实现100%自主可控。该系统具备强大的工艺扩展能力与远程运维功能，能够持续为设备全生命周期赋能，助力客户实现智能化、高效率的产线运营。
从首台AST6200光刻机交付到实现批量复购，不仅表明产品开发与产业实际需求相契合，也标志着设备的核心性能与稳定性经受住了市场的检验。
原标题：芯上微装AST6200光刻机获行业头部客户重复订单
浙公网安备 33010602000006号
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