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苏州苏大维格光电科技股份有限公司
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微图形高速直写光刻设备研制成功

阅读:1542发布时间:2016-1-6

苏大维格成为微纳光电材料与3D显示领域自主创新的典型企业,涉及微纳光学(镭射)印材、纳米印刷技术、3D成像技术、平板显示(大尺寸触控屏,超薄导光板)、智能维纳制造装备的研发与产业化, 在深交所A股创业板上市(苏大维格300331)。

幅面42英寸的微图形高速直写光刻设备研制成功。图形数据分辨率从0.35um提升0.25um。光刻速率达到3000平方毫米/分钟。该设备将为新一代2微米-15微米线宽的柔性印刷电子、平板和手机柔性电路、大尺寸触控导电膜、触控屏掩膜板的制备提供具有先进水平的智能装备。


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