微图形高速直写光刻设备研制成功

阅读：1543发布时间：2016-1-6

苏大维格成为微纳光电材料与3D显示领域自主创新的典型企业，涉及微纳光学（镭射）印材、纳米印刷技术、3D成像技术、平板显示（大尺寸触控屏，超薄导光板）、智能维纳制造装备的研发与产业化，在深交所A股创业板上市（苏大维格300331）。

幅面42英寸的微图形高速直写光刻设备研制成功。图形数据分辨率从0.35um提升0.25um。光刻速率达到3000平方毫米/分钟。该设备将为新一代2微米-15微米线宽的柔性印刷电子、平板和手机柔性电路、大尺寸触控导电膜、触控屏掩膜板的制备提供具有先进水平的智能装备。

以上信息由企业自行提供，信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责，智能制造网对此不承担任何保证责任。
温馨提示：为规避购买风险，建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。