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上海煜志机电设备有限公司
主营产品： 箱式炉,管式炉,气氛炉 |
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2016-7-12 阅读(811)
化学气相沉积（CVD）是目前制备石墨烯的zui有效、也是研究价值的方法。搭建一套完整而的石墨烯化学气相沉积系统并非易事，即使在系统搭建完成后，要真正制备出单层石墨烯，还需要较长时间的参数优化。这往往使得科研人员错过了好的研究时机。
G－CVD石墨烯化学气相沉积系统由厦门烯成新材料科技有限公司与国内*石墨烯研究机构合作开发，提供完整的石墨烯生长系统，同时提供石墨烯转移及测试的解决方案。 G-CVD系统兼容真空及常压两种主流的生长模式，采用计算机自动控制，系统内置了多种制备石墨烯的生长参数，用户只需简单操作，就可以轻松的制备出高质量的石墨烯。采用该系统，可以制备出毫米尺寸的石墨烯大单晶，也可以制备出数十厘米尺寸的石墨烯连续薄膜，还能生长13C同位素石墨烯。将为科研人员提供大量的研究机会，以及为实现各种科学想法创造了条件。
