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XMD2000高纯晶须碳纳米管导电剂研磨分散机
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  • XMD2000 产品型号
  • 品牌
  • 生产商 厂商性质
  • 苏州市 所在地

访问次数:1249更新时间:2020-10-22 12:12:00

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产品简介
高纯晶须碳纳米管导电剂研磨分散机配套三层连续高剪切分散机,用于粉体和液体的预分散,分散后进入高剪切分散工序,配管能够打循环.
产品介绍

高纯晶须碳纳米管导电剂研磨分散机

纳米锂电浆料分散设备,碳纳米管导电浆料分散机,高转速分散机

碳纳米管是一种新型的碳素材料,由呈六边形排列的碳原子构成数层至数十层的同轴圆管,层与层之间保持固定的距离,约0.34nm,直径一般为2-20纳米。

碳纳米管具有不寻常的性能,在纳米技术、电子、光学及材料科学和技术领域具有重要应用价值。特别是优异的的电传导、热传导和机械性能,使碳纳米管在许多领域有广泛的应用空间。目前报导的碳纳米管的主要制造方法是化学气相沉积法、电弧法和激光法。电弧法和激光法不适用于工业化生产,化学气相沉积发生产的碳纳米管弯曲和相互缠绕,阻碍工业应用。

本发明的目的是克服现有技术的不足,提出一种晶须状碳纳米管的制造方法。本发明是通过以下技术方案实现的。1、将二茂铁按重量体积=1 10^50的比例,溶解在苯溶液中,过滤。2、将配置好的二茂铁-苯溶液使用雾化器,通过氢和氮的混合气体喷射注入到合成炉中,合成炉温度控制在900°C 1200°C。本发明工艺简单,原料来源广泛,适用大规模工业生产。本发明所述的碳纳米管用作锂离子电池的导电添加剂;用于制造碳纳米管导电薄膜;用于制造电磁屏蔽和吸波材料;用作锂离子电池的正负极和集流极;用于场发射显示器发射极。

制备方法:

1.取10克二茂铁溶解在300毫升苯溶液中,过滤后备用。2.将上述配制好的二茂铁-苯溶液用蠕动泵注入到雾化器中,同时将氢和氮的混合气体导入雾化器。3.雾化后的溶液喷射注入炉温为900°C的合成炉中合成碳纳米管。4.合成的碳纳米管在合成炉的底部沉积,冷却后取出。

1.取10克二茂铁溶解在100毫升乙醇溶液中,过滤后备用。2.上述配制好的二茂铁乙醇溶液用蠕动泵注入到雾化器中,同时将氢和氮的混合气体导入雾化器。3.雾化后溶液喷射注入1000°C的合成炉中合成碳纳米管。4.合成的碳纳米管在合成炉的底部沉积,冷却后取出。实施例3。1.取10克二茂铁溶解在500毫升乙醇溶液中,过滤后备用。2.上述配制好的二茂铁乙醇溶液用蠕动泵注入到雾化器中,同时将氢和氮的混合气体导入雾化器。3.雾化后溶液喷射注入12000°C的合成炉中合成碳纳米管。4.合成的碳纳米管在合成炉的底部沉积,冷却后取出。实施例4。1.取10克二茂铁溶解在400毫升乙醇溶液中,过滤后备用。2.上述配制好的二茂铁乙醇溶液用蠕动泵注入到雾化器中,同时将氢和氮的混合气体导入雾化器。3.雾化后溶液喷射注入1000°C的合成炉中合成碳纳米管。4.合成的碳纳米管在合成炉的底部沉积,冷却后取出。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

高纯晶须碳纳米管导电剂研磨分散机



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