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8.5实验室等离子清洗机

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  • 型号 CY-LP
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更新时间:2023-05-30 09:21:26浏览次数:91

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产品简介

简单介绍: 8.5"实验室等离子清洗机是一种等离子体清洗剂或蚀刻装置,直径8.5英寸x 14英寸长石英腔和0 - 80W可变射频功率。8.5"实验室等离子清洗机采用空气、氧气或氩气等离子体对基体或晶圆片表面的纳米级有机污染物进行清洗和去除。在高射频功率下,有机去除率zui高可达20nm /min左右。8.5"实验室等离子清洗机是在外延薄膜沉积前对单晶基体进行预清洁以获得更好的质量的一种的工具。

详细介绍

详情介绍:

8.5"实验室等离子清洗机配有一个直连式双旋真空泵,可对腔体进行抽真空,同时通入氩气等保护气体,适用于对易氧化的物品的清洗。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等),对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理,将对生长具有显著的作用。

8.5"实验室等离子清洗机技术参数:

输入功率

•     AC 220V , 50/60 Hz,

•    射频功率:80 W Max.(标准) 

•    真空泵:正常550W,启动750W

•    总功率:830W max.

•    工作电流≤3A

射频功率

•    射频功率可在0-80W范围内调节

•    射频:13,56 MH

•    可选:可根据要求提供300 W射频电源,需额外收费

等离子室

•  8.5" O.D×8.2" I.D×14" L高纯度石英室

• 体积: 12 L

• 铰链式前法兰由铝制成

•  2.3"直径(60mm)石英窗口,便于观察

• 屏蔽RF辐射,零RF泄漏

控制面板

•  6"彩色触摸屏,可自动控制所有参数,用于等离子清洁,如真空度,气体流速,RF功率水平和清洁时间。

• 内置一个通道质量流量计(0-500ml /分钟),控制气体流量+/- 0.5 ml / m

真空泵和阀门

• 包含排气过滤器,KF25D适配器和夹具的240 L / m重型旋片式真空泵可立即使用

• *终总压力为50 mTorr

惰性气体

• 可以选择许多惰性气体进行等离子体清洁,如N2,Ar,空气和混合气体,取决于将要处理的材料类型。(不包括在包装内)

• 等离子清洁器不得使用

总体尺寸

620 L×600 W×600 H, mm

保证

一年有限保修,终身支持(耐热玻璃室无保修)

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