光学薄膜清洗用超纯水设备

光学薄膜清洗用超纯水设备在设计上，采用成熟、可靠、*、自动化程度高的两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流*可靠产品，采用PLC控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。我们公司专业生产二级反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟，在LED、LCD、半导体、光学薄膜、光电光学企业的脱盐水和超纯水装置，得到了业界的广泛赞誉。
设备参数：
产品名称：亚正光学薄膜清洗用超纯水设备
品牌：河南亚正
型号：ZL-01 
操作压力：5（Mpa） 
水电阻率：18
出水量：1-100 
电压：380（V）
功率：130（w） 
脱盐率：90（%）
单机出力：1-100（/h）

公司现主要产品包括：水处理设备、纯净水设备、软化水设备、锅炉软化水设备、反渗透设备、纯水机、超纯水机、矿泉水设备、直饮水处理设备、净水设备、超滤、微滤、纳滤装置，离子交换设备，电去离子（EDI）设备，沙、炭过滤设备，软水装置，小型水质处理器（反渗透纯水机，*净水器，直饮机）