详细介绍
电子级高纯水设备工艺介绍:
原水→原水箱→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→阻垢剂加药系统/还原剂加药系统→保安过滤器→中间水箱→高压泵1→反渗透装置1→
中间水箱→PH调节装置→高压泵2→反渗透装置2→纯水箱→输送泵→精密过滤器→EDI电除盐系统→EDI高纯水箱→输送泵→抛光混床→TOC去除器→
精密过滤器→用水点
注:本系统采用目前较*的处理工艺,主要有四个部分组成,预处理系统、二级反渗透主机系统、EDI电除盐系统、抛光混床系统;
原水采用自来水通过增压泵增压进入石英砂过滤器、活性炭过滤器,去除水中的悬浮物、胶体、有机物及余氯,配套有絮凝剂加药系统和阻垢剂加药系统,可有效降低水中浑浊度,防止反渗透膜的结垢,提高反渗透膜的使用寿命;
二级反渗透系统采用目前*的美国陶氏反渗透膜技术,自动制膜技术有效保证每支膜的水处理性能。一级反渗透采用BW30-400型号的反渗透膜,该膜具有脱盐率较高、操作压力较小,抗污染性能,膜的脱盐率可以达到99.7%;二级反渗透膜采用BW30-365系列膜,该膜广泛使用二级反渗透系统中,相对于其它膜在二级中具有更好的脱盐效率。二级反渗透出水水质电导率可以达到4微西门子以下;
EDI电除盐系统采用*西门子模块,EDI作为绿色脱盐模式,具有以下优点:占地面积省、运行成本低、系统设计简单、水质稳定、安装维修简便、绿色环保,不需要酸碱再生、可实现连续生产。EDI出水电阻率可以达到15~17兆欧;
抛光混床系统采用上海树脂厂和罗门哈斯合资品牌抛光核级树脂,抛光混床作为制取超纯水的核心部件,经处理后出水可以达到18兆欧以上,满足微电子行业用水要求;
电子级高纯水设备技术参数总表(以15t/h高纯水设备为例)
项目型号 | CL-15T/H型高纯水设备 |
应用行业 | 微电子冲洗用水 |
设备控制方式 | 触摸屏 PLC控制,各液位、压力连锁控制,实现无人值守 |
产水量 | 15T/H |
进水水质指标 | 市政自来水 ,电导率≤1000μS/cm |
产水水质 | 电导率≤0.055μS/cm(电阻率≥18MΩ.CM) |
反渗透设备系统脱盐率 | 99.7% |
自来水损耗 | 26t/h |
进水温度 | 2~35℃ |
工作方式 | 可24小时运行 |
设备大运行质量 | 预处理部分约30吨 二级反渗透主机系统约5吨 EDI电除盐和抛光混床:约4吨 |
设备额定功率 | 约55KW |
电源 | 380V AC 50HZ 三相五线 |
反渗透系统回收率 | 50~75% |
主机设备规格尺寸 | 长6000*宽2500*高2000 |
厂房建议尺寸(含操作维护空间) | 长19000*宽8000*高7000 |
进水口径 | DN100 PN1.0法兰接口 |
出水口径 | DN65 PN1.0法兰接口 |
排污口径 | DN150 PN1.0法兰接口 |