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半导体清洗纯水设备

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参   考   价: 160000 150000

订  货  量: 1-2  台 ≥3  台

具体成交价以合同协议为准

产品型号lz-600

品       牌

厂商性质经销商

所  在  地上海市

更新时间:2020-07-18 15:38:56浏览次数:460次

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经营模式:经销商

商铺产品:12条

所在地区:上海上海市

联系人:吴安东 (经理)

产品简介

半导体清洗纯水设备出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。高纯水设备是用于满足各行业需求制取纯水的设备,多用于医药、化学化工、半导体行业,也都由全不锈钢材质

详细介绍

项目

EDI

混床

产水性质

15~18MΩ·cm

2~10MΩ·cm

稳定性

水质稳定

水质受树脂交换状况,再生品质影响大

操作性

操作简便,无需专业熟练工

再生时对操作人员操作水平要求高

环保性

无需酸碱,无任何化学污染

需要酸碱再生,需解决酸碱储存与排放的问题

连续运行

再生时无需停机,边运行边再生

再生时需要停机再生

运行费用

初期投资

较高

 

 

原水→原水箱→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透设备→二级高压泵二级反渗透设备→纯水箱→增压泵→EDI系统→纯水箱→用水点(出水电阻率:≥15兆欧厘米

半导体清洗纯水设备采用果壳活性炭过滤器,活性炭不但可吸附电解质离子,还可进行离子交换吸附。经活性炭吸附还可使*耗氧量(COD)由15mg/L(O2)降至2~7mg/L(O2),此外,由于吸附作用使表面被吸附复制的浓度增加,因而还起到催化作用、去除水中的色素、异味、大量生化有机物、降低水的余氯值及农药污染物和除去水中的三卤化物(THM)以及其它的污染物。可选用手动阀门控制或者全自动控制器进行反冲洗、正冲洗等一系列操作。保证半导体清洗纯水设备的产水质量,延长设备的使用寿命。同时,设备具有自我维护系统,运行费用很低。 

电去离子(Electrodeionization)简称EDI

  是一种将离子交换技术,离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。属高科技绿色环保技术。EDI净水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点,已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。这种*技术的环保特性好,操作使用简便,愈来愈多地被人们所认可,也愈来愈多广泛地在医药、电子、电力、化工等行业得到推广。
  电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜).淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化,提纯,浓缩或精制的目的。 
去离子EDI)系统的优点
1. 无需酸碱再生: 在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生, 而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。   
2. 连续、简单的操作: 在混床中由于每次再生和水质量的变化,使操作过程变得复杂,而EDI的产水过程是稳定的连续的, 产水水质是恒定的,没有复杂的操作程序,操作大大简便化。   
3. 降低了安装的要求:EDI系统与相当处理水量的混床相比,有较不的体积,它采用积木式结构,可依据场地的高度和窨灵活地构造。 模块化的设计, 使EDI在生产工作时能方便维护。
去离子EDI)系统的应用领域
1、电厂化学水处理   
2、电子、半导体、精密机械行业超纯水   
3、食品、饮料、饮用水的制备   
4、小型纯水站,团体饮用纯水   
5、精细化工、精尖学科用水   
6、其他行业所需的高纯水制备   
7、制药工业工艺用水   

 

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