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紫外掩膜对准曝光系统

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产品型号NXQ4000

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更新时间：2020-03-15 13:36:09浏览次数：356次

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韦氏纳米系统（深圳）有限公司

经营模式：代理商

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所在地区：广东深圳市

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产品简介

美国NXQ以的性能，经济的价格，深受用户喜爱，截至2016年底，超过5000台NXQ曝光系遍布*科研实验室，研发中心。

详细介绍

NXQ4000系列半自动掩膜对准曝光系统，融合了du立的模块化设计，精准控制对准和曝光等特点，自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用，适合实验室多用户使用。

该系统特点：

锲型误差补偿系统----du特的WEC设计
紫外灯源的多样性选择
曝光光路的精准控制
视像分辨技术------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切换
高效对准控制-----可选配IR或OBS双面对准

使用领域（包括但不限于下述领域的光刻工艺）

- 微电子
- LED/HBLED
- 3D IC /晶圆制造工艺
- 2.5D Interposer
- MEMS
- BioMEMS
- 微流控芯片
- 化合物半导体
- 太阳能（HCPV）
- 光电子

型号：

NXQ4006半自动型（可处理大6英寸基片）
NXQ4008半自动型（可处理大8英寸基片）

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