详细介绍
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近期有比较多的客户咨询如何将微米粉末均匀稳定的分散在纳米液相中。
这个问题对我们来说其实比较简单,分散不稳定,无非是因为两者之间受力不同所导致的,这个受力直接的原因就是因为两相颗粒大小不同所致,因此要增加整个体系的稳定性、均一性需要将两种粒径尽可能接近,同时添加适宜的分散机会更好。详询上海依肯 林万翠 微纳米聚合材料高速粉液混合机
上海依肯CMSD2000系列研磨分散机,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题,其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料、石墨复合材料等多种新材料的制备应用上。CMSD2000系列的胶体磨(锥体磨)分散头的组合,可以先将物料(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。
.CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高精细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠
石墨烯复合材料分散机,由于石墨烯的特殊结构,采用砂磨机容易破坏片层结构。所以目前大多数厂家都在使用我司高剪切研磨分散机进行石墨烯浆料的处理,研磨分散机是将胶体磨(研磨机)和分散机合二为一的设备。工作原理为定转子高速运转产生强大的剪切力、离心力,对物料进行剪切、剥离、分散、细化。所以特别适合石墨烯浆料的生产,并且不容易破坏片层结构。
CMSD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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