x荧光膜厚仪_金东霖

x荧光膜厚仪_金东霖对被测样品发射一束一次X射线，样品的原子吸收X射线的能量后被激发并释放出二次X射线。每个化学元素会释放出特定能量的X射线。通过测量这些释放出的二次X射线的特征能量和强度，X射线分析仪就能够对被测材料的镀层厚度和成份提供定性和定量分析。
传统的楔切法，光截法，电解法，都是有损检测。而X射线它采用非接触式穿透测量法，既不会伤害材料，更不会受板型、现场条件、洁净度等因素的影响。并且测量稳定、准确还可以对大部分磁性或非磁性材料进行测量。 

x荧光膜厚仪_金东霖博曼（BOWMAN）分析:
元素范围：铝13到铀92。
x射线激发能量：50 W(50 kv和1 ma)钨靶射线管
探测器：硅PIN检测器250 ev的分辨率或更高的分辨率
测量的分析层和元素：5层(4层镀层+基材)和10种元素在每个镀层成分分析的同时多达25元素
过滤器/准直器：4个初级滤波器,4个电动准直器（0.1 0.2 0.3 1.5mm）
聚焦:多固定聚焦与激光系统
数字脉冲处理:4096 多通道数字分析器与自动信号处理，包括X射线时间修正和防X射线积累
电脑:英特尔酷睿i5 3470处理器(3.2 ghz),8 gb DDR3内存,微软Windows 7专业64位等效
镜头:1/4 " cmos - 1280 x720 VGA分辨率
电源:150 w、100 ~ 240伏,频率范围47赫兹到63赫兹
工作环境:50°F(10°C)到104°F(40°C)小于98% RH,无冷凝水
重量:32公斤
内部尺寸:高:140毫米(5.5”),宽:310毫米(12),深:210毫米(8.3”)  140*310mm
外形尺寸:高:450毫米(18英寸),宽:450毫米(18),深:600毫米(24)    450*450mm