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HXFD-030磁控真空溅射封端机
HXFD-030磁控真空溅射封端机
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访问次数：213更新时间：2022-06-04 15:29:37

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产品简介
简单介绍该设备主要应用于片式电阻生产过程中片式电阻体两端进行磁控真空溅射封端的工序
产品介绍


片式电阻生产设备

片式电阻生产设备

简单介绍

该设备主要应用于片式电阻生产过程中片式电阻体两端进行磁控真空溅射封端的工序。

磁控真空溅射封端机的详细介绍

磁控真空溅射封端机技术参数

1、          电流值：1.5~2.5A

2、          溅射时间：15~25分钟

3、          工作压力：7.0~5.0×10-3torr

4、          启动溅射真空压力：6.0~8.0×10-5torr

5、          氩气通入量：~120sccm

6、          料架筒转速：6~8rpm

7、          冷却水压力：1.2~1.5kg/cm2

8、          冷却水温度：20~25℃

9、          压缩空气压力：5kg/cm2

10、      氮气压力：2.5kg/cm2


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