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产品名称:膜厚仪主要技术指标:测量范围(VIS):15nm—100μm测量重复性(RMS):0.086nm测量精度(与椭偏仪对比):0.25nm测量层数:大于3层使用光源:卤素灯
产品名称:膜厚仪 | |
主要技术指标: | |
测量范围(VIS):15nm—100μm | |
测量重复性(RMS):0.086nm | |
测量精度(与椭偏仪对比):0.25nm | |
测量层数:大于3层 | |
使用光源:卤素灯; | |
入射角度:90° | |
测试材料:透明或半透明薄膜材料; | |
光斑尺寸:20μm—3mm(可选) | |
测量时间:100ms—4ms; | |
通信接口:USB2.0 | |
产品特点: | |
采用光谱干涉原理进行测量,具有非接触、无破坏、快速等特点; 测试数据:设备组成:测试主机、光纤、校正件、测量头、夹持装置、设备箱、手提电脑。 |
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