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沈阳科晶自动化设备有限公司
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小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW
产品详细介绍： 小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW是一款小型粉末包覆系统，主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚，通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。(更新日期2019.1.10）
| 产品型号 | 小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW |
| 安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：需要（可选配我公司冷水机）。 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀） 4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，,承重50kg以上 5、通风装置：需要 |
| 产品特点 | 1、可对粉体材料进行表面包覆：采用磁控溅射，溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚，达到粉体表面均匀包覆 2、设备小巧可在手套箱内使用，可处理样敏感性材料 |
| 技术参数 | 1、输入电压：220 VAC 50/60Hz 2、电源输出:1600 VDC 250 W 3、电流：150 mA . 4、溅射头：2英寸角度可调节溅射头 5、振动样品台： 样品台振动频率可调节：6-33Hz 样品台直径为50mm 建议样品量: < 500 mg 建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um 石英腔体尺寸：165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H 6、真空度： ①1.0E-2 Torr（采用机械泵），可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶 ② 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶真空度可达到< 4.0E-6 Torr（分子泵系统抽时间12小时，腔体进行烘烤） 7、CE认证 |
| 产品规格 | 外形尺寸：长460×宽330×高810mm 净重：20Kg |
| 注意事项 | 警告： 1、溅射头与高压电源相连接，操作时必须佩带防护手套 2、溅射前必须确保靶材，溅射头，基片和样品台清洁，需要用砂纸和乙醇来清洗，Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理 注意：粉末样品必须干燥和分散 |
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