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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

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更新时间：2023-02-25 10:06:52浏览次数：301次

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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

详细介绍

产品简介：VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

产品型号	VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
产品型号	VTC-600-2HD
安装条件	本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀 4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通风装置：需要
主要特点	1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。 2、可制备多种薄膜，应用广泛。 3、体积小，操作简便。
技术参数	1、电源电压：220V 50Hz 2、功率：<2KW（不含真空泵） 3、极限真空度：9.0×10^-4Pa 4、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度） 5、靶枪数量：2个（可选配其他数量） 6、靶枪冷却方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 8、直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W。（靶电源种类可选，可选择两个直流电源，也可选择两个射频电源，或选则一个直流一个射频电源） 9、载样台：Ø140mm，可根据客户需求选配加装偏压功能，以实现更高质量的镀膜。 10、载样台转速：1rpm-20rpm内可调 11、工作气体：Ar等惰性气体 12、进气气路：质量流量计控制2路进气，一路为100SCCM，另一路为200SCCM。
产品规格	1、主机尺寸：500mm×560mm×660mm 2、整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm 3、真空室规格：φ300×300mm 4、重量：160kg
标准配件	1	直流电源控制系统	1套
	2	射频电源控制系统	1套
	3	膜厚监测仪系统	1套
	4	分子泵（德国进口）	1台
	5	冷水机	1台
	6	冷却水管（Ø6mm）	4根
可选配件	金、铟、银、白金等各种靶材