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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

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更新时间：2023-02-25 10:07:57浏览次数：155次

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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

详细介绍

产品简介：VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

产品名称	VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
产品型号	VTC-600-3HD
安装条件	本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀 4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通风装置：需要
主要特点	1、配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。 2、可制备多种薄膜，应用广泛。 3、体积小，操作简便。 4、整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。 5、可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。
技术参数	1、电源电压：220V 50Hz 2、总功率：＜2.5KW 3、极限真空度：< E-6mbar（配合本公司设备使用可达到 E-5mbar） 4、工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度） 5、靶枪数量：3个 6、靶枪冷却方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 8、直流溅射功率：500W（可选） 9、射频溅射功率：300W/500W（可选） 10、载样台：Ø140mm，可根据客户需求选配加装偏压功能，以实现更高质量的镀膜。 11、载样台转速：1rpm-20rpm内可调 12、保护气体：Ar、N₂等惰性气体 13、进气气路：质量流量计控制2路进气，1个流量为100 SCCM，1个流量为200 SCCM
产品规格	主机尺寸：500mm×560mm×660mm，整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm；重量：160kg
标准配件	1	直流电源控制系统	2套
	2	射频电源控制系统	1套
	3	膜厚监测仪系统	1套
	4	分子泵（德国进口）	1台
	5	冷水机	1台
	6	冷却水管（Ø6mm）	4根
可选配件	金、铟、银、铂等各种靶材掩膜版振动样品台