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三靶高真空磁控镀膜溅射系统

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更新时间：2023-05-07 11:09:42浏览次数：122次

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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

三靶高真空磁控镀膜溅射系统

详细介绍

产品简介：该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备，通过模块式化设计后，系统安装方便灵活易于维护，适合科研与教学实验使用。

产品型号	三靶高真空磁控镀膜溅射系统
主要特点	1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室，由溅射真空室与管路组成。 2、配有旁抽系统，启动快不停机即可更换样品，重复性好。 3、用于镀制各种单层膜、多层膜系，可实现单靶独立、双靶轮流、双靶共溅射等溅射模式。 4、同时可以实现反应磁控溅射，制备氮化物，氧化物等，可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜。 5、作为试验设备来说达到了的性能价格比。
技术参数	系统由真空腔室、旋转样品架、磁控溅射靶、铠装加热器、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统等各部分组成。极限真空优于：5.0x10^-5Pa（经烘烤除气后）真空漏率小于2.0x10^-8Pa.l/S 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.0x10^-4Pa；停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa 1、真空室腔体尺寸Ф300x350mm，手动上开盖辅助液压结构，前有一个观察窗，样品台可旋转内部连接铠装加热器、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面采用电解抛光处理。采用金属或氟橡胶圈密封。配备一体机柜标准电箱。 2、磁控溅射靶靶材尺寸：Φ50mm（其中一个可以溅射磁性材料）；永磁靶一支、强磁靶一支：射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷；配手动挡板。 2个靶可共同向下面的样品中心溅射，靶与样品距离90～110mm可调。 3、铠装加热样品: 加热区域为Φ100mmX100mm(H),基片加热温度室温-600°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制。配有磁力转轴，电机驱动每分钟低于30转。
标准配件	1、真空部件进气角阀：2套； RF100观察窗：1套；观察窗法兰：RF100 2个；电阻规： KF16 1个；电极引线： CF25 1个； 2、工作真空获得及测量：直联6L/s机械泵： 1台； F600分子泵：1台；电磁KF20阀：1台； 5227真空计：1台角阀RF16、管路、接头、充气阀D6等： 1路； KF25电磁压差阀： 1台； CF100闸板阀：1台； 3、相关规格的金属密封铜圈，氟橡胶密封圈 4、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等 5、安装机台架组件: 安装台架：整个设备安放在一个用承载式标准电箱上，箱体均进行喷塑处理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。 6、电源控制系统电源布置在标准电箱上，安装于系统机架上。 7、自制电源控制电源：1台（为机械泵、电磁阀等提供电源及过程控制带逻辑监测）；样品加热电源：1台（日本产控温表可实现程序控温）室温-600°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制。 8、配套电源真空计电源：1套直流DC500W电源：2套流量显示、流量控制器：1套 9、备品备件：1套