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钢研纳克检测技术股份有限公司
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Plasma 1000 ICP光谱仪
1. 分析流程全自动化控制,实现软件点火、气路智能控制功能;
2. 输出功率自动匹配调谐,功率参数程序设定;
3. 优良的光学系统,*的控制系统,保证峰位定位准确,信背比优良;
4. 极小的基体效应;
5. 测量范围宽,超微量到常量的分析,动态线性范围5—6个数量级;
6. 检出限低,大多数元素的检出限可达ppb级;
7. 良好的测量精度,稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%(5ppm),优于国家标准(JJG768-2005);
8. Rf输出功率的范围750-1500W,输出功率稳定性小于0.1%;
9. 光电倍增管的负高压可在0-1000V范围内独立可调,可根据不同元素的不同谱线单独设置条件,和全谱仪器比较有更好的检出限;
10. 纳克仪器采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全;
11. 高精度的光室恒温系统,保证仪器优良的长短期精度;
12. 多通道蠕动泵进样,保证仪器进样均匀,工作稳定;
13. 使用钹铜弹片和特殊处理的屏蔽玻璃,在吸收紫外线同时使仪器辐射小于2V/m(JJG768-2005规定小于10V/m)。
14. 具有较高的谱线分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm双线谱线,能分出铁的四重峰。
15. 人性化的软件设计,操作方便,升级。功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中,进行数据处理,方法编制和结果分析,是真正的多任务工作软件;该软件数据处理功能强大,提供了多种方法,如内标校正、IECS和QC监测功能等,可获得的背景扣除点以消除干扰;对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告。
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