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长沙欣美和仪器有限公司
产品概述 WH81涂层测厚仪是一种便携式单基(铁基)测量仪,它能快速、无损伤、精密地进行涂、镀层厚度的测量
产品概述
WH81涂层测厚仪是一种便携式单基(铁基)测量仪,它能快速、无损伤、精密地进行涂、镀层厚度的测量。本仪器能广泛地应用在制造业、金属加工业、化工业、商检等检测领域。是材料保护专业的仪器。当然在实验室精密测量中也有使用,包括航空航天、科研开发等领域。
威福FRU单基涂层测厚仪WH81的产品特点
1、具有电源欠压指示功能
2、操作过程有蜂鸣声提示
3、能快速自动识别铁基体与非铁基体
4、设有两种关机方式:手动关机方式和自动关机方式;
5、有负数显示功能,保证仪器在零位点的校准准确性;
6、采用了磁性测厚方法,适用导磁材料上的非导磁层厚度测量。导磁材料一般为:钢、铁、银、镍。
7、可采用单点校准和两点校准两种方法对仪器进行校准,并可用基本校准法对测量头的系统误差进行修正,保证仪器在测量过程中仪器的准确性;
WH81涂层测厚仪技术参数
测量范围
| 0-1250um
|
工作电源
| 两节5号电池
|
测量精度误差
| 零点校准 ±(1+3%H);二点校准±【(1%~3%H)】H+1.5
|
环境温度
| 0-40℃
|
相对湿度
| ≤85%
|
Z小基体
| 10*10mm
|
Z小曲率
| 凸:5mm;凹 :5mm
|
Z薄基体
| 0.4mm
|
重量
| 115克(含电池)
|
尺寸
| 110mm*65mm*30mm
|
威福FRU单基涂层测厚仪WH81的使用说明
1)开机
按下ON键后仪器听到一声鸣响,自动恢复上次关机前的参数设置后,将显示0.0μm,仪器进入待测状态。可测量工件了。经过一段时间不使用仪器将自动关机。
2)关机
在无任何操作的情况下,大约3分钟后仪器自动关机。按一下“ON"键,立即关机。
3)单位制式转换(公制与英制转换)
在待测状态下,按μm/mil可转换其测量单位。
4)测量
a)准备好待测试件
b)是否需要校准仪器,如果需要,选择适当的校准方法进行(参照4仪器校准)
c)迅速将测量头与测试面垂直地接触并轻压测量头定位套,随着一声鸣响,屏幕显示测量值,仪器会自动感应被测基体:感应到是磁性基体时仪器显示Fe感应到是非磁性金属时仪器显示NFe。测量时请始终保持仪器处于垂直状态!提起测量头可进行下次测量;
威福FRU单基涂层测厚仪WH81的校准
为使测量准确,应在测量场所对仪器进行校准。
1校准标准片(包括箔和基体)
已知厚度的箔或已知覆盖层厚度的试样均可作为校准标准片。简称标准片。
a)校准箔
对于磁性方法,“箔"是指非磁性金属或非金属的箔或垫片。对于涡流方法,通常采用塑料箔。 “箔"有利于曲面上的校准,而且比用有覆盖层的标准片更合适。
b)有覆盖层的标准片
采用已知厚度的、均匀的、并与基体牢固结合的覆盖层作为标准片。对于磁性方法,覆盖层是非磁性的。对于涡流方法,覆盖层是非导电的。
2基体
a)对于磁性方法,标准片基体金属的磁性和表面粗糙度,应当与待测试件基体金属的磁性和表面粗糙度相似。对于涡流方法,标准片基体金属的电性质,应当与待测试件基体金属的电性质相似。为了证实标准片的适用性,可用标准片的基体金属与待测试件基体金属上所测得的读数进行比较。
b)如果待测试件的金属基体厚度没有超过表一中所规定的临界厚度,可采用下面两种方法进行校准:
1)在与待测试件的金属基体厚度相同的金属标准片上校准;
2)用一足够厚度的,电学性质相似的金属衬垫金属标准片或试件,但必须使基体金属与衬垫金属之间无间隙。对两面有覆盖层的试件,不能采用衬垫法。
c)如果待测覆盖层的曲率已达到不能在平面上校准,则有覆盖层的标准片的曲率或置于校准箔下的基体金属的曲率,应与试样的曲率相同。
3校准方法
本仪器有三种测量中使用校准方法:零点校准、二点校准,还有一种针对测量头的六点修正校准。本仪器的校准方法是非常简单的。
3.1零点校准
a)在基体上进行一次测量,屏幕显示<×.×μm>。
b)按ZERO键,屏显<0.0>。校准已完成,可以开始测量了。
c)重复上述a、b步骤可获得更为精确的零点,高测量精度。零点校准完成后就可进行测量了。注:本仪器提供负数显示,为用户更方便的选择零点。
3.2二点校准
这一校准法适用于高精度测量及小工件、淬火钢、合金钢。
a)先校零点(如上述)。
b)在厚度大致等于预计的待测覆盖层厚度的标准片上进行一次测量,屏幕显示<×××μm>。
c)用▲、▲、键修正读数,使其达到标准值。校准已完成,可以开始测量。
注:在仪器校准时,单次按将跳动一个数,长按不松开,将连续跳动要修正的值。
4六点修正校准
在下述情况下,改变基本校准是有必要的:
测量头顶端被磨损、新换的测量头、特殊的用途。
在测量中,如果误差明显地超出给定范围,则应对测量头的特性重新进行校准称为基本校准。通过输入6个校准值(1个零和5个厚度值),可重新校准测量头,具体操作方法如下:
a)在仪器开启的状态下,按顺序连续、快速按下以下按钮,即可进入六点修正校准;
b)先校零值。在六点修正校准界面的个界面,测一下没有任何涂层的基体,然后按ZERO键,屏幕中的ADJ显示0.0μm,按 进入下一点的校准;
c)校准仪器自带校准片,把50μm的放到基体上,测一下50μm的厚度,测出来的(ADJ)数与校准片的值不符按é ê调整到与校准片的值一样(如50μm测出来是54μm按ê调整到50μm), 然后按 进入下一点校准,接着用相同的校准方法依次校准100μm、250μm、500μm、1000μm校准膜片;
d)6点数据调整完之后,会出现对话框询问是否保存,按 确认保存;
e)若使用其他膜片标准,须按厚度增加的顺序,一个厚度上可做多次。每个厚度应至少是上一个厚度的1.6倍以上,理想情况是2倍。例如: 50、100、250、500、1000μm。Z大值应该接近但低于测量头的Z大测量范围;
注意:每个厚度应至少是上一个厚度的1.6倍以上,否则视为基本校准失败,后面一个点必须大于500μm
标准:
国家标准GB/T4956-2003《磁性基体上非磁性覆盖层厚度测量磁性法》
国际标准ISO 2178-1982
检定规程:
JJG818-2005《磁性、电涡流式覆层厚度测量仪》
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