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郑州科探仪器设备有限公司


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实验室小型磁控溅射仪

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参   考   价: 39800

订  货  量: ≥1 台

具体成交价以合同协议为准

产品型号KT-Z1650PVD

品       牌其他品牌

厂商性质生产商

所  在  地郑州市

更新时间:2023-05-04 16:22:28浏览次数:207次

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产品简介

实验室小型磁控溅射仪是一种利用溅射技术制备薄膜的设备,主要用于制备和研究金属、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。
它通常由四个主要组件组成:真空室、溅射枪、靶材和控制系统。真空室是封闭的金属或玻璃盒子,用于维持真空环境,以避免杂质和气体干扰制备过程。溅射枪是用于向靶材表面发射离子的设备,它可以控制溅射速率和角度,从而控制薄膜的厚度和均匀性。靶材是被准备薄膜所需的原材料。

详细介绍

郑州科探仪器设备是高质量定制物理 气相沉积(PVD)系统的设计者和制造商,客户服务和售后服务出色。拥有7年以上真空和薄膜沉积技术经验。其研发团队在学界科学家和工程师的支持下,高度积极地开发新设计以满足客户的特殊要求。

  郑科探的工程团队设计和制造的组件符合高质量标准。KT-Z1650PVD真空镀膜机已通过分销商销往许多大学和研究中心,并得到了很好的参考和反馈。

仪器描述:

实验室小型磁控溅射仪,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。


   产品特点:

    彩色触摸屏:数据输入简单快速

   • 通过触摸屏中直观检测数据和曲线;历史页面可显示历史涂层信息。

   • 可控镀膜速率,可得到更精细的晶粒结构

   • 可手动或自动,根据时间或根据厚度进行溅射

• 样品台更换简单:标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转;行星式旋转样品台为多孔样品带来好的喷金效果。

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实验室小型磁控溅射仪技术参数;

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口








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