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DH-CVD-XX 系列气氛热处理程控高温炉

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更新时间：2024-04-26 19:53:18浏览次数：162次

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杭州大华仪器制造有限公司

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产品简介

本装置包含烧结系统、供气系统、真空系统，供气系统于一体，应用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米管生长、石墨烯生长以及复合碳材料的渗透等；也可用于气相传输法材料合成及制备纳米材料，如ZnO、CdS等；溶液法制备薄膜，如制备庞磁电阻薄膜，制备高温超导薄膜等；固相反应法材料合成；在大气、真空或气氛保护下进行各种材料的热处理

详细介绍

本装置包含烧结系统、供气系统、真空系统，供气系统于一体，应用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米管生长、石墨烯生长以及复合碳材料的渗透等；也可用于气相传输法材料合成及制备纳米材料，如 ZnO、CdS 等；溶液法制备薄膜，如制备庞磁电阻薄膜，制备高温超导薄膜等；固相反应法材料合成；在大气、真空或气氛保护下进行各种材料的热处理。

设备规格及配置