当前位置：杭州大华仪器制造有限公司>>真空镀膜设备与材料制备系列>>DH-GCVD 系列石墨烯化学气相沉积系统

DH-GCVD 系列石墨烯化学气相沉积系统

返回列表页

参考价

面议

具体成交价以合同协议为准

产品型号

品牌

厂商性质其他

所在地杭州市

在线询价收藏产品查看联系电话

联系方式：查看联系方式

更新时间：2024-04-26 19:53:27浏览次数：130次

联系我时，请告知来自智能制造网

产品分类 品牌分类

暂无信息

杭州大华仪器制造有限公司

经营模式：其他

商铺产品：96条

所在地区：

询价 给他留言

产品简介

DH-GCVD系统兼容真空及常压两种主流的生长模式，可采用计算机自动控制，工作在常压气氛或真空条件，通过控制，可以在10-3Torr—760Torr之间的任意气压下进行石墨烯的生长

详细介绍

DH-GCVD 系统兼容真空及常压两种主流的生长模式，可采用计算机自动控制，工作在常压气氛或真空条件，通过控制，可以在 10 -3 Torr—760Torr 之间的任意气压下进行石墨烯的生长。既可以生长出六边形的石墨烯单晶，也可以生长出花瓣状的石墨烯单晶。整个石墨烯生长过程的重要参数由计算机进行精确控制，包括温度、气体流量等。控制软件内置多种生长优化参数，用户仅将衬底放入样品腔，即可开始生长。将为科研人员提供大量的研究机会，以及为实现各种科学想法创造了条件。

主要用途和适用范围

系统主要为高等院校，科研院所等单位的实验室提供专业的石墨烯生长设备。是一套完备的石墨烯制备系统，包括硬件和软件部分。

技术参数