PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 应用方案 无线通讯
上海德竹芯源科技有限公司
上海德竹芯源科技有限公司
暂无信息 |
动态二次离子质谱仪（D-SIMS）是使用一次离子束（通常是Cs源）轰击样品表面，而产生二次离子，然后用质谱分析仪分析二次离子的质荷比（m/q），从而得知元素在样品中的深度分布，是分析半导体掺杂和离子注入的有力的工具。
优势
● ULVAC-PHI 新设计的四极杆-二次离子质谱仪 ADEPT 1010，在原有的 PHI 6300 和 PHI 6600 的基础上，改善了离子光学系统，是在一次离子能量低至 250eV 时，仍保持有效的溅射束流的动态二次离子质谱系统（D-SIMS）。
特点
● 大束流低能量离子枪设计，提高了深度分辨率
● 高性能离子光学系统，改善了二次离子传输效率，在提高分析效率的同时又提高了检测灵敏度
● 高精度全自动 5 轴样品操控台
● 不同方向进入检测器的二次离子，均可被高灵敏地收集检测
应用实例分析
● 采用一次离子源 Cs 在加速 5kV 束流为 100nA 的条件下，分析 GaAs 中注入的 H，C，O 元素。可以看到 H 检测限值 7.1 × 1016 atm/cm3，O 检测限值 4.4 × 1015 atm/cm3，C 检测限值 2.0 × 1015 atm/cm3。
您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
智能制造网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
