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成都汉普升科技有限公司
成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制
●成都汉普升科技有限公司,成立于2015年11月16日,致力于电真空、核级装备、人工晶体材料及薄膜制备设备的技术提升,在服务领域深耕细作,具有较深的技术沉积。
公司成立以来,在自己所擅长领域为客户提供优良的产品和技术解决方案,公司注重产品和运营模式创新,我们坚信:唯有创新方能给用户增值,公司已与多家科研院所、高等院校及企事业单位进行横向合作,形成了科研级、工业级产品体系,已为客户设计制造了多套专用设备和仪器,获得了用户广泛赞誉。
●本设备主要用于半导体刻蚀,能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能,使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀,并形成可从衬底上移除的挥发性副产品,通过真空系统排出,特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
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