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全自动磁控离子溅射仪

订       金: 42000

订  货  量: ≥1  件

具体成交价以合同协议为准

产品型号M31/GVC-2000

品牌

厂商性质生产商

所在地北京市

更新时间:2022-11-29 10:45:30浏览次数:900次

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全自动磁控离子溅射仪 型号:M31/GVC-2000库号:M374697
要参数
输入电压 AC220V±10%,50Hz
工作电压 DC600V
大功率(主机与机械泵) 450W
可选靶材 金、铂、银、铜、钛、铅等常用金属

全自动磁控离子溅射仪 型号:M31/GVC-2000库号:M374697 要参数输入电压 AC220V±10%,50Hz工作电压 DC600V大功率(主机与机械泵) 450W可选靶材 金、铂、银、铜、钛、铅等常用金属真空泵 两级直联旋片式真空泵 1L/s真空腔 约φ125×125mm样品杯 φ64×1整机尺寸(长×宽×高) 424×271×255(mm)重量(主机) 11 kg工作环境 温度 5~40℃,湿度<60%存储环境 温度-10~60℃,湿度<80%工作气体 Air / Ar保护功能 过流、真空双保护


全自动磁控离子溅射仪 型号:M31/GVC-2000库号:M374697 要参数输入电压 AC220V±10%,50Hz工作电压 DC600V大功率(主机与机械泵) 450W可选靶材 金、铂、银、铜、钛、铅等常用金属真空泵 两级直联旋片式真空泵 1L/s真空腔 约φ125×125mm样品杯 φ64×1整机尺寸(长×宽×高) 424×271×255(mm)重量(主机) 11 kg工作环境 温度 5~40℃,湿度<60%存储环境 温度-10~60℃,湿度<80%工作气体 Air / Ar保护功能 过流、真空双保护


全自动磁控离子溅射仪 型号:M31/GVC-2000库号:M374697 要参数输入电压 AC220V±10%,50Hz工作电压 DC600V大功率(主机与机械泵) 450W可选靶材 金、铂、银、铜、钛、铅等常用金属真空泵 两级直联旋片式真空泵 1L/s真空腔 约φ125×125mm样品杯 φ64×1整机尺寸(长×宽×高) 424×271×255(mm)重量(主机) 11 kg工作环境 温度 5~40℃,湿度<60%存储环境 温度-10~60℃,湿度<80%工作气体 Air / Ar保护功能 过流、真空双保护


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