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全自动离子溅射镀膜仪

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产品型号型号:13M288894

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所在地北京市

更新时间:2024-04-19 11:46:15浏览次数:209次

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全自动离子溅射镀膜仪型号:HHD3-Cressington 108A库号:M346248
技术参数:
1.样品仓尺寸:120mm x 120mm,高强度不锈钢玻璃结构;
2.样品台:可放置12个标准SEM样品座,可调高度优于50mm;
3.溅射头:低电压平面磁控管,靶材换快速,环绕暗区护罩;
4.溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空联锁装置,大180A,配有过流保护;

 全自动离子溅射镀膜仪型号:HHD3-Cressington 108A库号:M346248
技术参数:
1.样品仓尺寸:120mm x 120mm,高强度不锈钢玻璃结构;
2.样品台:可放置12个标准SEM样品座,可调高度优于50mm;
3.溅射头:低电压平面磁控管,靶材换快速,环绕暗区护罩;
4.溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空联锁装置,大180A,配有过流保护;
5.溅射控制:微处理器控制,互锁,可调,大电流40mA,程序化数字控制;
6.靶材可选:Au、Pt、Ag、Cr、Cu、Fe等;
7.镀膜均匀性好,电流回路控制,低压直流冷态溅射镀膜,避免样品微纳结构热损伤;
8.真空系统:真空值优于10-3mbar,机械泵抽速可达4.0m3/h
9.电源:200-240 VAC,50/60Hz
样品仓尺寸120 mm x 120mm,高强度硼硅酸盐钢化玻璃结构(可选150mm)
样品台可放置12个SEM样品座,可调高度优于60mm
溅镀优点基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空联锁装置,
大180A,配有过流保护
溅射控制程序化数字控制,恒流设计
溅射头低电压平面磁控管,靶材换快速,环绕暗区护罩
靶材标配金或铂,可选金/钯,铂/钯,银,铜,镍,铁等
溅射速率优于2.3nm/s(根据不同条件可调)
真空系统原装真空泵,降噪减震设计,10-3mbar真空度
适用配套Thermo Fisher/FEI,Shimadzu,Carl Zeiss,JEOL,Hitachi,Tescan,Phenom等
电镜和电子探针系统以及电极薄膜制备
序号名称描述数量
1 108A主机高性能离子溅射镀膜仪是用于扫描电镜非导电样品的镀膜设备。经济紧凑型设计容易操作,提供了快速抽真空时间,镀膜设计和对样品无热损伤。的互锁技术提供了可灵活设定不会受真空压力影响的溅射电流。通过一个低压磁控管进行冷态溅射,喷镀。1
2靶材Pt铂靶1
3样品仓120mm x 120mm,高强度硼硅酸盐钢化玻璃结构1
4样品台可放置12个SEM样品台,可调高度为60mm 1
5操作手册中/英文操作手册;1
6泵高性能真空泵系统
4m3每小时抽速,10-3mbar真空度,附带减震垫的桌面式设计1
7 KF16连接装置全金属连接耦合系统1
8油污过滤器进口高性能油污过滤器



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双气路大气采样仪 型号:NB5-QC-2B库号:M

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