光催化氧化除臭设备 等离子uv光氧一体机

光催化氧化除臭设备 等离子uv光氧一体机是一种专门去除有毒有害气体及恶臭气体的一种装置。是等离子分解废气净化器+UV光解除臭废气净化器两种设备的*结合，综合采用了等离子废气净化器和紫外光触媒除臭废气净化器两种设备的优点组合而成，利用等离子分解技术和UV紫外光解技术相结合，对废气和臭气进行高效协同净化处理！它具有高效率、运行成本低、设备占地面积小，自重轻、无任何机械动作，无噪音等特点，等离子光解一体机净化设备净化效率在95%以上。是目前市场上优质废气净化设备。

 光催化氧化除臭设备 等离子uv光氧一体机

当废气进入等离子光解一体机净化设备内时，先经过等离子体化学反应过程，即电子首先从电场获得能量，通过激发或电离将能量转移到分子或原子中去，获得能量的分子或原子被激发，同时有部分分子被电离，从而成为活性基团；之后这些活性基团与分子或原子、活性基团与活性基团之间相互碰撞后生成稳定产物和热。（在外加电场的作用下，介质放电产生的大量携能电子轰击污染物分子，使其电离、解离和激发，然后便引发了一系列复杂的物理、化学反应，使复杂大分子污染物转变为简单小分子安全物质，或使有毒有害物质转变成无毒无害或低毒低害的物质，从而使污染物得以降解去除。）

低温等离子区工作原理：

1.介质阻挡放电产生电子能量高，低温等离子体密度大，可达到常用等离子技术（电晕放电）的1500倍，几乎可以击碎所有有机废气的分子链；
2.技术反应速度快，气体通过反应区的流速达到3—15米/秒，也可以达到处理效果；
3.自动化程度高，设备启动、停止十分迅速，随用随开，对于部分不连续产生废气的收集点，可以循环启动停止解决成本.

去除污染物的基本过程：

过程一：产生高能电子，羟基，臭氧及氧原子；
过程二：高能电子轰击污染分子；
过程三：自由氧、羟基自由基氧化污染物分子；
过程四：活性基团及分子碎片反应。

UV光氧化区原理：一重破坏、分解，三重催化氧化破坏、分解采用高能C波段（仅次于切割不锈钢的激光，强于氩弧焊光源的数十倍强度）在设备内，强裂解恶臭物质分子链，改变物质结构，将高分子污染物质，裂解、氧化成为低分子无害物质，如水和二氧化碳等。

催化氧化
1、O3强催化氧化剂进行废气催化氧化，可有效地杀灭细菌，将有毒有害物质破坏且改变成为低分子无害物质；
2、催化剂涂层，在C波段激光刺激它产生活性，强化催化氧化作用；
3、在分解过程中产生高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*（活性氧）O+O2-O3（臭氧），*臭氧对有机物具有*的氧化作用，对恶臭气体及其它剌激性异味有*的清除效果。O3也为强催化氧化剂进行废气催化氧化，裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，*达到脱臭及杀灭菌的目的；

4、催化剂（*）在受到紫外线光照射时生成化学活泼性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基，攻击有机物，达到降解有机物的作用。*属于非溶型材料，在分解有机污染物和杀灭菌的同时，自身不分解、不溶出，光催化作用持久，并具有持久的杀菌、降解污染物效果。