氧化锌湿法纳米高速剪切研磨分散机

氧化锌湿法纳米高速剪切研磨分散机性能特点

纳米氧化锌粒径介于1-100 nm之间，是一种面向21世纪的新型高功能精细无机产品，使其在陶瓷、化工、电子、光学、生物、医药等许多领域有重要的应用价值，具有普通氧化锌所无法比较的特殊性和用途。

氧化锌是一种无机物，化学式为ZnO，是锌的一种氧化物。难溶于水，可溶于酸和强碱。氧化锌是一种常用的化学添加剂，广泛地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产品的制作中。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能，在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。此外，微颗粒的氧化锌作为一种纳米材料也开始在相关领域发挥作用。

CMD2000系列研磨式分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。

纳米氧化锌是一种多功能性的新型无机材料，其颗粒大小约在1～100纳米。由于晶粒的细微化，其表面电子结构和晶体结构发生变化，产生了宏观物体所不具有的表面效应、体积效应、量子尺寸效应和宏观隧道效应以及高透明度、高分散性等特点。近年来发现它在催化、光学、磁学、力学等方面展现出许多特殊功能，使其在陶瓷、化工、电子、光学、生物、医药等许多领域有重要的应用价值，具有普通氧化锌所无法比较的特殊性和用途。纳米氧化锌在纺织领域可用于紫外光遮蔽材料、抗菌剂、荧光材料、光催化材料等。

纳米氧化锌分散机总体上来说其实是将胶体磨跟分散乳化机合二为一，在一台设备上完成了两台设备联合运行才能达到的效果。IKN纳米氧化锌分散机开机转速跟IKN胶体磨已经IKN三级高剪切乳化机一样，都可以达到9000rpm，经变频后转速亦可升至14000rpm。
 
一般安装方式是乳化头在下，磨头在上，磨头有胶体磨跟锥体磨两种磨头可选，乳化头提供2P、2G、4M、6F、8SF 等共五种分散乳化头可供选择。磨头跟乳化头的选择需要根据具体物料的处理要求来定。我们在处理纳米氧化锌的时候因为处理要求需要处理到200目以上，我们的实验室工程师经过多次调试发现只有锥体磨配8SF分散乳化头循环5-6遍可达到200目的处理要求。在设备配置保证的同时，还需将设备转速变频至12500rpm，使用循环水冷却控制温度。
 
纳米氧化锌分散机工作原理：研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

CMD2000系列研磨式分散机的特点：

①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

氧化锌湿法纳米高速剪切研磨分散机技术参数

CMD2000系列设备选型表

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2.处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。

3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.
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