蔡司Sigma 300 场发射扫描电镜

产品描述

蔡司公司推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，将低电压成像技术发挥到了，采用适宜的探针电流范围，降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间，提高效率。

产品应用

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分   析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶 粒取向测量。

技术参数

• 分辨率：1.0nm@30kV STEM 、1.0nm @15 kV  、1.8nm @1kV
• 放大倍数：10-1,000,000×
• 加速电压：调整范围：0.02-30 kV（无需减速模式实现）
• 探针电流： 3pA～20nA（100nA选配）  稳定性优于 0.2%/h
• 低真空范围： 2-133Pa （Sigma 300VP可用）
• 样品室： 365 mm（φ），275mm（h）
• 样品台：5轴优中心全自动    X=125mm  Y=125 mm  Z=50 mm  T=-10o-90o  R=360o 连续
• 系统控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系统，可选鼠标、键盘、控制面板控制
• 存储分辨率：32k x 24k pixels