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真空摩擦磨损计 (VT-3.0)

参考价 ¥ 300000
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称无锡市誉一荣电子科技有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       号
  • 所  在  地无锡市
  • 厂商性质经销商
  • 更新时间2023/8/22 10:27:40
  • 访问次数276
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无锡市誉一荣电子科技有限公司

 

誉一荣电子科技有限公司(Famous Electronics Technology Ltd.)创建于2009年,大中华区总部位于中国香港,并在北京、无锡分别设有办事处。

誉一荣电子致力于代理和应用*进成熟的表面检测,微小力学测量和*的环境感知技术及设备,同时与国内外研发机构合作研究开发高精密测控和测量技术及设备。誉一荣电子尤其专注于微观表面检测,轴承检测,惯导和智能控制领域的研究与探索, 成功引进并推广了高精度摩擦力矩测试仪,三维表面形貌测量仪,激光雷达测量测绘设备及三维形貌软件等国外优质产品。公司能够对客户需求做出准确响应并通过高技术、高品质的产品和规范完善的服务体系全面满足客户的需求,涉及智能控制,自动化控制,人工智能,无人驾驶,测量测绘等多个领域。

誉一荣电子高度重视人才的培养与引进,公司管理层具有多年的高精密电子产品行业从业经验和丰富的科技企业管理经验,主要技术人员技术扎实、经验丰富并富有创造力和创新能力。誉一荣电子同时具有强大的凝聚力,把员工团结在一个和谐、相互信任、相互帮助、相互尊重、充满活力的集体中。在誉一荣电子每个员工都能获得个人的成长与发展机会。

高质与高效的服务是连接高科技产品及技术与用户之间的桥梁,无论在售前或售后阶段,誉一荣电子的专业技术人员及销售人员都将本着精益求精、诚实守信的原则为客户提供技术咨询与服务,及时解决用户遇到的技术难题。

誉一荣电子坚信能成为您较忠实、可信赖的*合作伙伴。

 

 

气流冲蚀、摩擦磨损试验机、瓶盖扭矩仪
材质 合金 用途 测试
真空摩擦磨损计 (VT-3.0),具有真空、温度、运动和加载选项的可配置模块化摩擦计。 VT-3.0 是我们的第三代真空摩擦磨损计,它现在是模块化的并且比以往任何时候都更强大。轻松地从手动加载到自动加载,将测试模式从旋转更改为角振荡,甚至是线性振荡
真空摩擦磨损计 (VT-3.0) 产品信息

真空摩擦磨损计 (VT-3.0)


如需了解详情,请call:4001361036

公司:famouset(誉荣电子)



具有真空、温度、运动和加载选项的可配置模块化摩擦计。

VT-3.0 是我们的第三代真空摩擦磨损计,它现在是模块化的并且比以往任何时候都更强大。轻松地从手动加载到自动加载,将测试模式从旋转更改为角振荡,甚至是线性振荡。

提供桌面和落地式两种格式,以满足您的空间要求。

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产品特点

专为摩擦学打造

粗、中、高真空测试

快速腔室排空(<45 分钟)

超低温和高温选项

自动或手动加载,充分灵活

连续旋转和角振荡模式是标准的

可选择线性振荡

自动磨损轨迹控制是标准配置

电脑控制操作

的腔室设计,用于查看和定制测试。

测试标准

ASTM G99 使用销盘设备进行磨损测试的标准测试方法

ASTM G133 直线往复球对平滑动磨损的标准测试方法

模块化且易于使用

VT-3.0 使摩擦学变得容易。模块化传感器、加载、运动和环境选项。

用于观察和定制的大端口使 VT-3.0 为您想要添加到测试仪的任何技术做好准备。检修门敞开,方便测试设置、清洁和维护。

获得高分辨率传感器

真空兼容电容和压电传感器。*机械解耦设计,具有出色的灵敏度。

我们获得*解耦的多轴传感器头使用电容传感器,可以感应从几毫牛顿 (mN) 到数百牛顿 (N) 的力。传感头可轻松与 VT-3.0 互换,以适应您不断变化的需求。

多种测试模式

连续滑动、角往复、角划痕、直线往复和直线划痕

每台 VT-3.0 测试仪都标配有执行连续顺时针和逆时针测试、角度往复运动和角度划痕测试的能力。通过添加线性模块 (LRM),线性往复和线性划痕也是可能的。

可定制的架构

当标准选项不够用时,自定义您的 VT-3.0 测试仪。

基于我们的POD-4.0 多功能摩擦计平台,VT-3.0 是可定制的。现在,您真正 的应用程序可以拥有真正 的测试仪。

技术规格

运动和加载

回转:标准:3000

选项:5000

角往复: 角度:5180

频率: 20 Hz

允许参数取决于负载、COF、角度和频率。

加载: 自重:200 N

可选自动:200 N - 高频反馈控制伺服回路。

应用

*材料的摩擦磨损行为

空间机构润滑剂

高真空条件下的涂层、薄膜和粘合剂

离子推进发动机

宇航服、卫星、移动机械组件和密封件

粒子加速器

化学气相沉积 (CVD) / 等离子气相沉积 (PVD)

半导体设备

高真空和低温工艺

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