微纳结构三维形貌测量仪

本产品具有以下特点： 的测量精度：基于干涉测量原理，测量重复性达到1nm。 极大的测量范围：采用扫描系统，在保证纳米定位精度的同时，单场扫描范围可达到10mm，结合白光光源重构方法，可满足曲面元件等大范围物体测量需求。 全自动测量：标配自动检焦功能，结合自动调焦装置，无需复杂调节过程，一键操作即可完成调焦、检测全过程。选配自动二维平台，可自动完成大面积三维数据拼接操作 高集成度、安装简便：整机集成为统一整体，仅需外接220v电源，通过USB3.0 数据传输，即可完成数据传输与测量 具有的性价比：采用技术，保证系统性能的同时，降低制造成本 灵活性高：拥有独立知识产权，可根据用户需求，对系统进行改进，满足工业不同应用场景需求。 技术参数： 型号 3DNM-W50 光源 LED CCD分辨率 2040×1080 调焦方式 自动 纵向扫描范围 4mm 纵向扫描速度 15μm/s 倾斜调整范围 2° 纵向分辨率 VSI：0.5nm，PSI：0.1nm 横向分辨率 650nm（20倍物镜） 台阶测量重复性 1nm XY样品台行程 100mm×100mm（手动） Z轴行程 50mm（自动） 重量 50Kg 外形尺寸 550mm×380mm×680mm 数据传输接口 USB 3.0