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Zeta纳米粒度仪

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  • 公司名称广州市东和仪器科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地广州市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2022/9/25 15:42:43
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广州市东和仪器科技有限公司公司座落于广州白云柏丰商贸大厦,是一家拥有成熟技术团队成立的仪器顾问型公司,东和公司的初衷是以专业技术为导向,为实验室提供整体解决方案。经过几年的实践、探索、磨合,已成功发展为一家以科技为本、服务为中心的专业仪器供应商,在仪器行业享有良好的口碑。 东和公司所代理的产品以高质量为基础,齐全的产品链、专业的性价分析、成熟的售后服务团队、*的网站平台,为用户提供完整的实验室解决方案。东和公司的快速发展,这一切得益于公司拥有*ERP软件与宠大的仪器工程师团队,在我们为用户解决实验仪器疑难中,使东和公司的服务变得越来越专业化和标准化。
其他物性分析仪/测定仪
型号:Nicomp380Z3000Basic仪器型号:Z3000Basic工作原理:粒度分布:动态光散射仪(DynamicLightScattering,DLS)ZETA电位:多普勒电泳光散射原理(DopplerElectrophoreticLightScattering,DELS)检测范围:粒径范围0
Zeta纳米粒度仪 产品信息
型号:
Nicomp 380 Z3000 Basic

仪器型号:Z3000 Basic

工作原理: 粒度分布:动态光散射仪(Dynamic Light Scattering, DLS)

ZETA电位:多普勒电泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)

检测范围: 粒径范围 0.3nm-10.0μm

ZETA电位 +/- 500mV

产品介绍:Nicomp 380 Z3000系列纳米激光粒度仪是在原有的经典型号380ZLS&S基础上升级配套而 来,采用动态光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理检测分析颗粒的粒度分布,同机采 用多普勒电泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)检测ZETA电 位。粒径检测范围 0.3nm – 10μm,ZETA电位检测范围为+/- 500mV。其配套粒度分析软件复 合采用了高斯( Gaussian)单峰算法和拥有技术的 Nicomp 多峰算法,对于多组分、粒径 分布不均匀分散体系的分析具有优势。ZETA电位模块使用双列直插式方形样品池和钯电极, 一个电极可以使用成千上万次。另外,采用可变电场适应不同的样品检测需求。既保证检测精 度,亦帮用户大大节省检测成本。

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仪器参数:

1、粒径检测范围 0.3nm-10μm

2、分析方法 动态光散射,Gaussian单峰算法和 Nicomp多峰算法

3、pH值范围 1-14

4、温度范围 0℃-90 ℃

5、激光光源 15mW激光光源

6、检测角度 90°

7、检测器 APD(雪崩二极倍增管,可3-5倍增益放大)PMT(高性能光电检测器)

8、可用溶剂 水相,绝大多数有机相

9、样品池 标准4 mL样品池(1cm×4cm,高透光,石英玻 璃或塑料); 1mL样品池(玻璃,高透光率微量样品池)

10、分析软件 必配科研级软件; 符合 21 CFR Part 11 规范分析软件(可 选)

11、验证文件

12、电压 220–240VAC,50Hz或100–120VAC,60Hz

13、外形尺寸 56 cm * 41 cm * 24cm

1、重量 26kg(与配置有关)

技术优势:

1、PMT高灵敏度检测器;

2、可搭配不同功率光源;

3、双列直插式电极和样品池,可反复使用成千上万次;

4、钯电极;

5、精确度高,样品真实值;

6、复合型算法: 高斯(Gaussion)单峰算法与的Nicomp多峰算法自由切换 相位分析法(PALS)和频谱分析法(FALS)自由切换

7、快速检测,可以追溯历史数据;

8、结果数据以多种形式和格式呈现;

9、符合USP,CP等个多药典要求;

10、无需校准;

11、复合型算法: (1)高斯(Gaussion)单峰算法与的Nicomp多峰算法自由切换

12、模块化设计便于维护和升级;

1)可自动稀释模块(选配);

2)搭配多角度检测器(选配);

3)自动进样系统(选配);

应用领域

1、纳米载药:纳米药物研究近些年主要着重在药物的传递方向并发展迅猛,纳米粒的大小可以有效减少毒性和副作用。所以,控制这些纳米粒的粒径大小是非常必要的。

2、磨料磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。

3、化学机械抛光液(CMP SLURRY)化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分 组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构 型。晶片的加工误差通常以埃计,对晶片质量至 关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有 利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。

4、陶瓷陶瓷在工业中的应用非常广泛,从砖瓦到生物医 用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量。

5、粘土粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂 与粘土类似,但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。

6、涂料涂料种类繁多,用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。

7、污染物监测:粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用,产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范,必须严格遵守和执行,以保证产品满足质量要求。

8、化妆品:无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂,它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的 粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收,而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗 的作用。

9、乳剂乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系,通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型,一种是水分散在油中,另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶(水包油型)和黄油(油包水型),加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。

10、食品食品的原料(粉末及液体)通常来源于不同的加工厂,不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何 波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制(QA/QC)的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。

11、液体工作介质/液体工作介质(如:油)越来越昂贵,延长液体 介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中(如:油浴润滑介质或液力传递介质),因此需要一种方法来确定介质(油)的更换周期。通过监测工作介质(油)中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。

12、墨水:随着打印机技术的不断发展,打印机用的墨水变 得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制 在一定的尺度以下,且分布均匀,大的颗粒易于 堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方 法制得的,可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程,以保证墨水的颗粒粒度分布均匀,避免产生聚集的大颗粒。

13、胶束胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后,其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒,这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。乳液、色漆、制药粉体、颜料、 聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO2 纳米管(TNAs)等

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