难熔氧化物晶体熔炼炉（冷坩埚炉）

一.晶体熔炼炉用途:

晶体熔炼炉采用冷坩埚法，主要用于难熔非金属氧化物晶体、化学高纯的单晶材料、熔融陶瓷的制备。

二、设备结构组成

1、本晶体熔炼炉设备采用冷坩埚技术熔炼难熔非金属氧化物晶体、化学高纯的单晶材料、熔融陶瓷，可以获得高纯的晶体材料。

2、根据熔炼的晶体材料不同，通过调整工艺条件，熔炼温度可以达到2000-3000℃。

3、熔体不与化学异类物质接触，可以保证工艺过程的高纯度，合成材料的杂质，至少不高于原始组分的纯度，在很多情况下，纯度的级别比原始材料纯度还要高。

4、可以选择不同的气氛条件，例如：真空、氧气、惰性气体。

5、可以合成高纯化合物。

6、本设备为立式炉体结构，炉体左半部上部为感应器和冷坩埚部分，冷坩埚的上下两端为法兰结构，用于密封炉体的两端，炉体部分包括感应器、保温材料、冷坩埚、循环水系统，红外测温仪设置在炉体的上部，炉体的下部为冷坩埚升降装置；炉体右半部分为控制系统，控制系统包括控制系统、显示系统、感应电源等，整个炉体系统放置于地面上，便于操作和设备的维护。

7、炉体外表面涂腻子、磨光、喷底漆、面漆处理。面漆颜色为银灰色。整套系统设备的颜色应协调一致，外壳光滑美观。

8、保护系统设计完整、齐全、可靠，对于过电压、过电流、缺相、欠水压等均可声光报警并转入保护状态。

9、感应器和电源冷却系统：各水冷部位冷却效果良好，冷却水温大于50℃时声光报警，总水压小于0.15MPa时声光报警。水冷管道采用硬管连接方式。

10、冷坩埚整体可以升降，便于从感应器内取出结晶体。

三、产品规格型号