【供应】ＰＣＢ双面曝光机

一、主要用途：
　　干膜、湿膜、内层双面或单面曝光。

　　二、主要系统：
　　曝光控制、光源、冷却、台面真空、电控等。

　　三、曝光控制：
　　采用触摸式控制，全数字化设定操作，能量控制精确。

　　四、光源系统：
　　常态点灯方式，并装有动作灵巧的自动遮光器之设置。

　　五、冷却系统：
　　光源冷却，采用间接式水冷，冷却方式以蒸馏水置于石英玻璃水套内，经板式热交换器充分进行热交换，使效率发挥*点，曝光台面采用强制气冷方式，且可控制温度。

　　六、真空系统：
　　采用MYLAR薄膜对玻璃配合真空系统之强大吸力，达到紧密配合之高效果。

　　七、保护措施：
　　漏电保护，紧急开关，异常讯息警报及显示，水箱之水温过高保护，冷却异常自动熄灭，冷却循环水压力异常自动熄灯等。 

　　八、技术参数： 项 目 规 格 项 目 规 格 
电源 AC 3φ 380V 00A 50HZ 监控系统 自我诊断功能及异常讯息提示 
光源系统 7KW卤化金属灯2支 曝光量控制 UV能量积算器 
有效曝光面积 850mm×650mm 照度均匀性 85%以上 
曝光框架 上层：MYLAR薄膜
下层：强化玻璃 灯管寿命 800h，30mv/cm2±5% 
冷却水源 10吨之冷却水塔，2-3kgf/cm2 真空装置 干式真空泵浦，正常操作下真空压力650mm/hg以上 
台面冷却方式 气冷式冷却 机台尺寸 2700mm×1400mm×1765mm 
灯管冷却方式 间接式水冷 重 量 约1000kg 
控制方式 触摸式人机介面