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光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
迈可诺技术（Mycro Technologies）是一家面向大中华及东南亚地区（包括中国、香港、澳门、中国台湾、新加坡、马来西亚、越南等地）科研院所和企业研发中心的研究人员，提供欧美日韩*实验室设备、耗材和技术支持的专业供应商。
紫外掩膜对准光刻机/曝光机 产品信息
