紫外掩膜曝光机

这款紫外掩膜曝光机是采用紫外LED冷光源的紫外曝光机和掩膜曝光机，是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置，它提供标准的365nm紫外线，同时可根据用户需求提供385nm, 395nm 和405nm紫外光源,适合光学，生物科技，微电子，晶圆键合，固化，细胞培养等多种应用，广泛用于紫外曝光。
紫外掩膜曝光机是单色紫外发射，具有35mW/cm^2的功率密度，在4英寸的面积上光源均匀度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光机。
这套紫外掩膜曝光机采用了的LED光源技术，实现单波长紫外冷光源照明，有效消除热效应，非常适合实验室或超净间的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光机结构紧凑，方便移动，采用触摸屏控制操作，有效安全控制紫外曝光室。
紫外掩膜曝光机的LED紫外光源寿命高达1万小时，非常可靠而耐用，不需要日常维护，非常方便使用。

紫外掩膜曝光机特点
非常紧凑，桌上使用设计
的紫外单色LED冷光源
工作面积为4英寸晶圆
适合所有光刻胶
分辨率：2微米
无需预热，直接开机使用
实时温度控制功能确保均匀曝光
紫外照明功率强度可调
可单次曝光或连续曝光
适合光学，生物科技，微电子，晶圆键合，固化，细胞培养等多种应用

紫外掩膜曝光机参数
波长：365nm 或405nm 任选
功率密度：40mW/cm^2
曝光过程中衬底温度上升：<1摄氏度
曝光时间：1秒到18小时
可编程控制循环：10个
分辨率：2微米
外部尺寸：260x 260x260mm
重量：8.2kg
彩色触摸屏：5.7英寸
供电要求：230V
用电功耗：180W