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性能优势
WhisperLok 系统: 无需破坏主腔室真空，样品交换时间小于1 分钟。
低能聚焦潘宁离子枪:降低表面损伤，改善 EBSD 及 CL 等低能抛 光技术下的实验成果 。
能量从0.1 到 8.0 kV 可调: 低能区减少非晶层，高能区大幅提高 制样速度 。
液氮冷台：消除热效应所产生的样品损伤 。
10 英寸彩色触摸屏控制: 通过图形用户界面 (GUI) ，快速简便地 访问所有的控制参数 。
数码变焦显微镜:实时观察抛光过程 。
DigitalMicrograph 软件彩照存储: 能够将存储的光学图像以相 同的格式与 SEM 数据一起使用。
技术规格
| Ilion II 系统 | |||
| 离子源 | |||
| 离子枪 | 两个配有稀土磁铁的潘宁离子枪 | ||
| 抛光角度 (°) | +10 到-10°，每支离子枪可独立调节 | ||
| 离子束能量 (kV) | 0.1 – 8.0 | ||
| 离子束流密度(A/cm2) | 10 | ||
| 抛光速率 (µm/h) 8.0 kV 条件下 | 300（对于硅试样） | ||
| 离子束直径 | 可用气体流量计或放电电压来调节 | ||
| 离子束直径 | 可用气流控制器或放电电压来调节立调节 | ||
| 样品台 | 真空系统 | ||
| 样品大小(长 x 宽 x 高, mm) | 10 x 10 x 4 | ||
| 样品装载 | Ilion 的样品挡板 | ||
| 转速 (rpm) | 0.5 – 6.0 | ||
| 束流调制 | 角度范围可调的单束调制或双束调制， | ||
| 样品观察 | 或者不调制 | ||
| 真空系统 | |||
| 干泵系统 | 两级隔膜泵支持 80 升/秒的涡轮分子泵 | ||
| 压力 (torr) | |||
| 基本压 | 5 x 10-6 | ||
| 工作压 | 8 x 10-5 | ||
| 真空规 | 冷阴极型，用于主样品室；固体型，用前级机械泵 | ||
| 样品气锁 | WhisperLok技术，样品交换时间小于1 分钟 | ||
| 用户界面 | |||
| 10 英寸彩色触摸屏 | 操作简单，且能够控制所有参数和配方式操作 | ||
| 尺寸及使用要求 | |||
| 外形尺寸 (L x W x H, mm) | 575 x 495 x 615 | ||
| 运输重量(kg) | 45 | ||
| 功耗 (W) | |||
| 运行中 | 200 | ||
| 待机中 | 100 | ||
| 电源要求 | 通用 100 – 240 VAC，50/60 Hz（用户电压和频率） | ||
| 氩气(psi) | 25 | ||
