日立 高性能聚焦离子束系统 MI4050

产品介绍：

       MI4050是具有以下特征的高性能聚焦离子束系统：新型电子光学系统，可达到高水准的SIM像分辨率・大束流使加工速度得以提升・提高了低加速电压的分辨率，使得高品质TEM样品制备成为可能

       可用于截面加工观察，高品质TEM样品制备，电路修复，Vector Scan加工，微纳米级微细图形及磨具加工，利用沉积功能制作3维构造等众多样品加工应用。

探针电流90nA，实现快速加工和大面积加工

焊线的截面加工

（加工尺寸　宽：95µm　深：55µm， 加工时间　20min）

通过提高极低加速电压（0.5kV～）加工及低加速电压二次电子图像分辨率，实现制备损伤率更低的TEM样品

* 1kV以下为选配

可观察高分辨率SIM成像（二次电子成像分辨率高达4nm@30kV）

采用高精度5轴电动机械优中心马达台

可在样品台移动（包括倾斜）时自动对多个部位进行多种加工。

*的操作性能和多种多样的加工模式

1、截面制备程序加工

2、TEM/STEM样品程序加工

3、自动连续加工

4、TEM样品自动连续精加工软件

5、位图加工

6、Vector Scan加工

7、制备纳米精度三维结构样品 其他

悬空纳米导线制作

样品来源：兵库县立大学 松井真二 先生

SIM像三维重构分析

       等间隔截面加工与截面观察的往复进行，可取的多张截面连续SIM像，并进行3维重构。由此可判断样品中颗粒，孔洞等3维分布状态。

使用多路气体系统（MGS-II）修复电路

       该系统可对应保护膜材料、配线材料、绝缘膜、加速蚀刻等多种用途，照射多种气体。

1、钨沉积气体

2、铂沉积气体

3、绝缘膜制备用沉积气体

4、氟化氙蚀刻气体

5、有机类蚀刻气体

6、碳沉积气体

使用XeF2气体实现的大深径比孔加工以及采用钨沉积引线

丰富多样的坐标链接功能

       日立公司的坐标链接功能丰富多样，可确定正确的加工位置和大幅缩短时间。

1、光镜图像与SIM像的链接

     双光标功能

     日本第4634134号 美国第7595488号

2、与缺陷检测设备建立坐标链接

     已截断的晶元或芯片也可与缺陷检测设备建立坐标链接。

3、CAD联用导航软件

产品规格：

产品选购件：

1、4通道供气系统

2、自动连续加工软件

3、TEM样品自动加工软件

4、控制器显微镜 其他

*：可选择其他MI系列的各种选配件。